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一种栅极阵列图形的双重曝光制作方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN201510591374.X
申请日：
2015-09-17
公开(公告)号：
CN105280479A
公开(公告)日：
2016-01-27
发明(设计)人：
毛晓明
毛智彪
申请人：
申请人地址：
201210 上海市浦东新区张江高科技园区高斯路568号
IPC主分类号：
H01L21027
IPC分类号：
代理机构：
上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275
代理人：
吴世华;陈慧弘
法律状态：
实质审查的生效
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2016-02-24 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101647684108 IPC(主分类):H01L 21/027 专利申请号:201510591374X 申请日:20150917 |
| 2018-05-01 | 授权 | 授权 |
| 2016-01-27 | 公开 | 公开 |