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一种真空镀膜机的磁控溅射靶装置
被引：0
专利类型：
实用新型
申请号：
CN202020345117.4
申请日：
2020-03-18
公开(公告)号：
CN211620605U
公开(公告)日：
2020-10-02
发明(设计)人：
孙艳山
申请人：
申请人地址：
064200 河北省唐山市遵化市团瓢庄乡洪水川村
IPC主分类号：
C23C1435
IPC分类号：
代理机构：
北京化育知识产权代理有限公司 11833
代理人：
尹均利
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2020-10-02 | 授权 | 授权 |