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一种真空镀膜机的磁控溅射靶装置
被引：0
专利类型：
实用新型
申请号：
CN201620325686.6
申请日：
2016-04-18
公开(公告)号：
CN205590793U
公开(公告)日：
2016-09-21
发明(设计)人：
丁进金
申请人：
申请人地址：
312000 浙江省绍兴市袍江工业区越英路绍兴鑫兴纺织镭射科技有限公司
IPC主分类号：
C23C1435
IPC分类号：
代理机构：
代理人：
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2016-09-21 | 授权 | 授权 |
| 2018-05-04 | 专利权的终止 | 未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C23C 14/35 申请日:20160418 授权公告日:20160921 终止日期:20170418 |