间隙填充方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201811331123.8

申请日：

2018-11-09

公开(公告)号：

CN109786223A

公开(公告)日：

2019-05-21

发明(设计)人：

J·F·卡梅伦 K·张崔莉 D·格林山田晋太郎

申请人：

申请人地址：

美国马萨诸塞州

IPC主分类号：

H01L21027

IPC分类号：

H01L21033 C07C4569 C07C49753

代理机构：

上海专利商标事务所有限公司 31100

代理人：

陈哲锋;胡嘉倩

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-06-14	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/027 申请日:20181109
2019-05-21	公开	公开

共 50 条

[1]

间隙填充方法 [P].

沈载桓 ;

朴琎洪 ;

林载峰 ;

赵廷奎 ;

徐承柏 ;

朴钟根 ;

李明琦 ;

P·D·胡斯塔德 .

中国专利 :CN105304550A ,2016-02-03

[2]

间隙填充方法 [P].

朴钟根 ;

徐承柏 ;

P·D·胡斯塔德 ;

李明琦 .

中国专利 :CN104701238A ,2015-06-10

[3]

间隙填充沉积工艺 [P].

姜浩 ;

古劳斯·贝基亚里斯 ;

埃莉卡·陈 ;

梅裕尔·B·奈克 .

中国专利 :CN114556544A ,2022-05-27

[4]

实现无缝钴间隙填充的方法 [P].

布尚·N·左普 ;

阿夫耶里诺斯·V·杰拉托斯 ;

博·郑 ;

雷雨 ;

傅新宇 ;

斯里尼瓦斯·甘迪科塔 ;

柳尚澔 ;

马修·亚伯拉罕 .

中国专利 :CN105518827A ,2016-04-20

[5]

实现无缝钴间隙填充的方法 [P].

布尚·N·左普 ;

阿夫耶里诺斯·V·杰拉托斯 ;

博·郑 ;

雷雨 ;

傅新宇 ;

斯里尼瓦斯·甘迪科塔 ;

柳尚澔 ;

马修·亚伯拉罕 .

中国专利 :CN110066984B ,2019-07-30

[6]

间隙填充方法 [P].

王晓日 ;

程刘锁 .

中国专利 :CN111128718A ,2020-05-08

[7]

填充间隙的方法 [P].

S·禹 ;

R·H·J·沃乌尔特 .

:CN120300063A ,2025-07-11

[8]

碳间隙填充处理 [P].

A·S·巴加尔 ;

符谦 .

美国专利 :CN118120043A ,2024-05-31

[9]

碳间隙填充膜 [P].

江施施 ;

E·文卡塔苏布磊曼聂 ;

P·曼纳 ;

A·玛里克 .

中国专利 :CN112385013A ,2021-02-19

[10]

低温碳间隙填充 [P].

S·高希 ;

S·S·罗伊 ;

A·B·玛里克 ;

S·S·奥哈 ;

P·P·杰哈 ;

程睿 .

美国专利 :CN119365960A ,2025-01-24

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