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一种磷化铟衬底的抛光工艺

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202110331419.5
申请日：
2021-03-29
公开(公告)号：
CN112975592B
公开(公告)日：
2021-06-18
发明(设计)人：
王书杰 孙聂枫 王阳 李晓岚 史艳磊 邵会民 付莉杰 刘铮 孙同年 刘惠生
申请人：
申请人地址：
050000 河北省石家庄市新华区合作路113号
IPC主分类号：
B24B100
IPC分类号：
B24B2902 B24B5702 C25F330
代理机构：
石家庄众志华清知识产权事务所(特殊普通合伙) 13123
代理人：
王苑祥
法律状态：
实质审查的生效
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2021-07-06 实质审查的生效 实质审查的生效 IPC(主分类):B24B 1/00 申请日:20210329
2022-02-15 授权 授权
2021-06-18 公开 公开
共 50 条
[1]
一种磷化铟衬底的抛光装置 [P]. 
王书杰 ;
孙聂枫 ;
王阳 ;
李晓岚 ;
史艳磊 ;
邵会民 ;
付莉杰 ;
刘铮 ;
孙同年 ;
刘惠生 .
中国专利 :CN214723256U ,2021-11-16
[2]
一种磷化铟衬底的抛光装置 [P]. 
王书杰 ;
孙聂枫 ;
王阳 ;
李晓岚 ;
史艳磊 ;
邵会民 ;
付莉杰 ;
刘铮 ;
孙同年 ;
刘惠生 .
中国专利 :CN112847114A ,2021-05-28
[3]
一种磷化铟的单面抛光装置 [P]. 
王书杰 ;
孙聂枫 ;
王阳 ;
李晓岚 ;
史艳磊 ;
邵会民 ;
付莉杰 ;
刘铮 ;
孙同年 ;
刘惠生 .
中国专利 :CN214736195U ,2021-11-16
[4]
磷化铟衬底、检查磷化铟衬底的方法和制造磷化铟衬底的方法 [P]. 
藤原新也 ;
樋口恭明 .
中国专利 :CN107112201B ,2017-08-29
[5]
磷化铟衬底和制造磷化铟衬底的方法 [P]. 
藤原新也 ;
樋口恭明 .
中国专利 :CN111952150A ,2020-11-17
[6]
磷化铟单晶片的抛光工艺 [P]. 
董宏伟 ;
赵有文 ;
杨子祥 ;
焦景华 .
中国专利 :CN1402309A ,2003-03-12
[7]
一种磷化铟衬底的制备方法 [P]. 
刘兴达 ;
周锐 ;
柯尊斌 ;
吴怀东 .
中国专利 :CN113206007B ,2021-08-03
[8]
一种磷化铟衬底的清洗方法 [P]. 
郑金龙 ;
杨士超 ;
周铁军 .
中国专利 :CN112382555B ,2024-07-19
[9]
一种磷化铟衬底的清洗方法 [P]. 
郑金龙 ;
杨士超 ;
周铁军 .
中国专利 :CN112382555A ,2021-02-19
[10]
磷化铟单晶和磷化铟单晶衬底 [P]. 
桥尾克司 ;
鸿池一晓 ;
柳泽拓弥 .
日本专利 :CN112204175B ,2024-03-26
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