MOSFET封装结构及其晶圆级制作方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201610098995.9
申请日
2016-02-23
公开(公告)号
CN105552053A
公开(公告)日
2016-05-04
发明(设计)人
于大全 耿增华 翟玲玲 崔磊 沈歆煜
申请人
申请人地址
215300 江苏省苏州市昆山市开发区龙腾路112号
IPC主分类号
H01L23485
IPC分类号
H01L2160
代理机构
昆山四方专利事务所 32212
代理人
盛建德;段新颖
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
新型MOSFET封装结构及其晶圆级制作方法 [P]. 
于大全 ;
姚明军 ;
翟玲玲 ;
崔志勇 .
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[2]
晶圆级芯片封装结构及其制作方法 [P]. 
马书英 ;
于大全 .
中国专利 :CN107068629A ,2017-08-18
[3]
晶圆级封装结构及其制作方法 [P]. 
赖金榜 ;
马俊 .
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[4]
晶圆级封装结构及其制作方法 [P]. 
曾坚信 .
中国专利 :CN102903821A ,2013-01-30
[5]
晶圆级封装结构及其制作方法 [P]. 
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赖金榜 .
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[6]
晶圆级封装结构的制作方法 [P]. 
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赖金榜 .
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[7]
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于大全 ;
肖智轶 ;
崔志勇 ;
耿增华 .
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[8]
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[9]
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[10]
晶圆级封装结构及制作方法 [P]. 
黄晓波 ;
宋向东 .
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