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表面处理方法、半导体器件、半导体器件的制造方法以及处理设备
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN03806748.X
申请日：
2003-01-30
公开(公告)号：
CN100350565C
公开(公告)日：
2005-07-20
发明(设计)人：
嵯峨幸一郎
申请人：
申请人地址：
日本东京都
IPC主分类号：
H01L21304
IPC分类号：
代理机构：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人：
郭广迅;庞立志
法律状态：
实质审查的生效
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2005-09-14 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 |
| 2005-07-20 | 公开 | 公开 |
| 2011-04-20 | 专利权的终止 | 未缴年费专利权终止 号牌文件类型代码:1605 号牌文件序号:101063896086 IPC(主分类):H01L 21/304 专利号:ZL03806748X 申请日:20030130 授权公告日:20071121 终止日期:20100130 |
| 2007-11-21 | 授权 | 授权 |