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一种暗场半导体晶圆检查装置
被引:0
申请号
:
CN202122465778.8
申请日
:
2021-10-13
公开(公告)号
:
CN216560328U
公开(公告)日
:
2022-05-17
发明(设计)人
:
徐海洋
申请人
:
申请人地址
:
215000 江苏省苏州市张家港市凤凰镇凤凰科技创业园B幢2层
IPC主分类号
:
G01N2195
IPC分类号
:
G01N2101
代理机构
:
苏州欣达共创专利代理事务所(普通合伙) 32405
代理人
:
范玉敏
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2022-05-17
授权
授权
共 50 条
[1]
暗场半导体晶圆检查装置
[P].
P·加斯塔尔多
论文数:
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P·加斯塔尔多
;
F·佩尔诺
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F·佩尔诺
.
中国专利
:CN104169713A
,2014-11-26
[2]
一种半导体晶圆边缘检查装置
[P].
丁超
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机构:
江苏纳沛斯半导体有限公司
江苏纳沛斯半导体有限公司
丁超
;
陈宝康
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机构:
江苏纳沛斯半导体有限公司
江苏纳沛斯半导体有限公司
陈宝康
;
张雄稚
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机构:
江苏纳沛斯半导体有限公司
江苏纳沛斯半导体有限公司
张雄稚
.
中国专利
:CN222838010U
,2025-05-06
[3]
半导体晶圆检查装置
[P].
金廷桓
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机构:
韩国科学技术院
韩国科学技术院
金廷桓
;
洪大元
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机构:
韩国科学技术院
韩国科学技术院
洪大元
;
金兑炫
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机构:
韩国科学技术院
韩国科学技术院
金兑炫
;
李周范
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机构:
韩国科学技术院
韩国科学技术院
李周范
;
韩相旭
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机构:
韩国科学技术院
韩国科学技术院
韩相旭
;
郑锡俊
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机构:
韩国科学技术院
韩国科学技术院
郑锡俊
;
赵荣勋
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机构:
韩国科学技术院
韩国科学技术院
赵荣勋
;
朴炳权
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机构:
韩国科学技术院
韩国科学技术院
朴炳权
.
韩国专利
:CN120077471A
,2025-05-30
[4]
一种半导体晶圆切割装置
[P].
殷泽安
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殷泽安
.
中国专利
:CN218170966U
,2022-12-30
[5]
半导体晶圆
[P].
M·J·塞登
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M·J·塞登
;
野间崇
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野间崇
;
斋藤和弘
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斋藤和弘
.
中国专利
:CN207338360U
,2018-05-08
[6]
一种半导体晶圆固晶装置
[P].
陆金发
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陆金发
.
中国专利
:CN216563070U
,2022-05-17
[7]
一种半导体晶圆
[P].
任霄峰
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任霄峰
;
胥超
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胥超
;
何洪涛
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何洪涛
;
徐永青
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徐永青
.
中国专利
:CN206014408U
,2017-03-15
[8]
一种半导体晶圆定向系统
[P].
邓尚上
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邓尚上
;
赖朝荣
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赖朝荣
;
苏俊铭
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苏俊铭
;
张旭升
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张旭升
.
中国专利
:CN204011388U
,2014-12-10
[9]
半导体晶圆制造装置
[P].
赵宏宇
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赵宏宇
;
裴立坤
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裴立坤
.
中国专利
:CN202796880U
,2013-03-13
[10]
半导体晶圆传输装置
[P].
温子瑛
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温子瑛
.
中国专利
:CN203205394U
,2013-09-18
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