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竖向功率半导体器件和制造方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202110526626.6
申请日
:
2021-05-14
公开(公告)号
:
CN113675265A
公开(公告)日
:
2021-11-19
发明(设计)人
:
F·D·普菲尔施
C·P·桑多
D·韦伯
申请人
:
申请人地址
:
德国瑙伊比贝尔格市坎芘昂1-15号
IPC主分类号
:
H01L29739
IPC分类号
:
H01L21331
代理机构
:
中国专利代理(香港)有限公司 72001
代理人
:
刘书航;周学斌
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2021-11-19
公开
公开
共 50 条
[1]
竖向功率半导体器件和制造方法
[P].
H-J·舒尔茨
论文数:
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0
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0
H-J·舒尔茨
;
P·科勒-雷德利希
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P·科勒-雷德利希
;
T·拉斯卡
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T·拉斯卡
;
F-J·尼德诺斯泰德
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F-J·尼德诺斯泰德
;
V·范特里克
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V·范特里克
.
中国专利
:CN113937160A
,2022-01-14
[2]
竖向功率半导体器件、半导体晶片或裸管芯布置、载体和制造竖向功率半导体器件的方法
[P].
A·布罗克迈尔
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A·布罗克迈尔
;
F·J·桑托斯罗德里格斯
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F·J·桑托斯罗德里格斯
;
H-J·舒尔策
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H-J·舒尔策
.
中国专利
:CN112885888A
,2021-06-01
[3]
竖向功率半导体器件
[P].
曾光
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0
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机构:
英飞凌科技股份有限公司
英飞凌科技股份有限公司
曾光
;
D·彼得斯
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0
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0
机构:
英飞凌科技股份有限公司
英飞凌科技股份有限公司
D·彼得斯
.
德国专利
:CN118571932A
,2024-08-30
[4]
功率半导体器件和制造功率半导体器件的方法
[P].
H-J·泰斯
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机构:
英飞凌科技股份有限公司
英飞凌科技股份有限公司
H-J·泰斯
;
A·莫德
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机构:
英飞凌科技股份有限公司
英飞凌科技股份有限公司
A·莫德
.
德国专利
:CN119767703A
,2025-04-04
[5]
功率半导体器件和制造功率半导体器件的方法
[P].
C·奎斯特-马特
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机构:
纬湃科技有限责任公司
纬湃科技有限责任公司
C·奎斯特-马特
;
D·巴贡
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机构:
纬湃科技有限责任公司
纬湃科技有限责任公司
D·巴贡
;
D·沃尔夫
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机构:
纬湃科技有限责任公司
纬湃科技有限责任公司
D·沃尔夫
.
德国专利
:CN114450783B
,2025-11-11
[6]
功率半导体器件和制造功率半导体器件的方法
[P].
C·奎斯特-马特
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C·奎斯特-马特
;
D·巴贡
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D·巴贡
;
D·沃尔夫
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D·沃尔夫
.
中国专利
:CN114450783A
,2022-05-06
[7]
功率半导体器件和制造功率半导体器件的方法
[P].
A·菲利普
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机构:
英飞凌科技股份有限公司
英飞凌科技股份有限公司
A·菲利普
;
T·阿诺德
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机构:
英飞凌科技股份有限公司
英飞凌科技股份有限公司
T·阿诺德
;
S·施密特
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机构:
英飞凌科技股份有限公司
英飞凌科技股份有限公司
S·施密特
;
F·J·尼德诺斯特海德
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机构:
英飞凌科技股份有限公司
英飞凌科技股份有限公司
F·J·尼德诺斯特海德
.
德国专利
:CN120129259A
,2025-06-10
[8]
功率半导体器件和制造功率半导体器件的方法
[P].
A·莫德
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机构:
英飞凌科技股份有限公司
英飞凌科技股份有限公司
A·莫德
;
H-J·泰斯
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机构:
英飞凌科技股份有限公司
英飞凌科技股份有限公司
H-J·泰斯
.
德国专利
:CN119767702A
,2025-04-04
[9]
功率半导体器件和制造功率半导体器件的方法
[P].
T·纳尔德曼
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机构:
英飞凌科技奥地利有限公司
英飞凌科技奥地利有限公司
T·纳尔德曼
;
V·拉皮杜斯
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机构:
英飞凌科技奥地利有限公司
英飞凌科技奥地利有限公司
V·拉皮杜斯
;
F·普菲尔施
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机构:
英飞凌科技奥地利有限公司
英飞凌科技奥地利有限公司
F·普菲尔施
;
A·斯卡沃佐
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机构:
英飞凌科技奥地利有限公司
英飞凌科技奥地利有限公司
A·斯卡沃佐
.
:CN119730266A
,2025-03-28
[10]
功率半导体器件和功率半导体器件的制造方法
[P].
D·卡塞斯
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D·卡塞斯
;
A·科泽尼茨
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A·科泽尼茨
;
H·舒尔茨
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H·舒尔茨
;
F·乌姆巴赫
论文数:
0
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0
F·乌姆巴赫
.
中国专利
:CN115706008A
,2023-02-17
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