一种沟槽型功率MOSFET及其制备方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201710891945.0
申请日
2017-09-27
公开(公告)号
CN107658341B
公开(公告)日
2018-02-02
发明(设计)人
黄平
申请人
申请人地址
201414 上海市奉贤区青村镇钱桥路756号1363室
IPC主分类号
H01L2978
IPC分类号
H01L21336
代理机构
上海天翔知识产权代理有限公司 31224
代理人
陈骏键
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
沟槽型功率MOSFET及其制备方法 [P]. 
周宏伟 ;
阮孟波 ;
吴宗宪 .
中国专利 :CN103426924A ,2013-12-04
[2]
沟槽型功率MOSFET及其工艺方法 [P]. 
颜树范 .
中国专利 :CN110993693A ,2020-04-10
[3]
一种沟槽型MOSFET功率器件及其制备方法 [P]. 
王谦 ;
费晨曦 ;
柏松 ;
杨勇 .
中国专利 :CN111029398A ,2020-04-17
[4]
沟槽型功率MOSFET器件及其制造方法 [P]. 
朱袁正 ;
叶鹏 ;
刘晶晶 .
中国专利 :CN105957895A ,2016-09-21
[5]
沟槽栅功率MOSFET及其制造方法 [P]. 
颜树范 .
中国专利 :CN107527944B ,2017-12-29
[6]
沟槽型MOSFET器件及其制备方法 [P]. 
崔同 ;
万兴兴 ;
朱开兴 ;
加春雷 .
中国专利 :CN113594255A ,2021-11-02
[7]
沟槽型功率MOSFET器件 [P]. 
朱袁正 ;
叶鹏 ;
刘晶晶 .
中国专利 :CN205789991U ,2016-12-07
[8]
沟槽型大功率MOSFET器件 [P]. 
陈译 ;
陆佳顺 ;
杨洁雯 .
中国专利 :CN211654830U ,2020-10-09
[9]
沟槽栅功率MOSFET结构及其制造方法 [P]. 
柯行飞 ;
缪进征 .
中国专利 :CN106024894B ,2016-10-12
[10]
一种沟槽型双层栅功率MOSFET及其制造方法 [P]. 
黄伟 ;
林伟铭 .
中国专利 :CN114334661B ,2022-04-12