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一种沟槽型功率MOSFET及其制备方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201710891945.0
申请日
:
2017-09-27
公开(公告)号
:
CN107658341B
公开(公告)日
:
2018-02-02
发明(设计)人
:
黄平
申请人
:
申请人地址
:
201414 上海市奉贤区青村镇钱桥路756号1363室
IPC主分类号
:
H01L2978
IPC分类号
:
H01L21336
代理机构
:
上海天翔知识产权代理有限公司 31224
代理人
:
陈骏键
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2018-03-02
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 29/78 申请日:20170927
2018-02-02
公开
公开
2020-09-15
授权
授权
共 50 条
[1]
沟槽型功率MOSFET及其制备方法
[P].
周宏伟
论文数:
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0
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周宏伟
;
阮孟波
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阮孟波
;
吴宗宪
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吴宗宪
.
中国专利
:CN103426924A
,2013-12-04
[2]
沟槽型功率MOSFET及其工艺方法
[P].
颜树范
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颜树范
.
中国专利
:CN110993693A
,2020-04-10
[3]
一种沟槽型MOSFET功率器件及其制备方法
[P].
王谦
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王谦
;
费晨曦
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费晨曦
;
柏松
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柏松
;
杨勇
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杨勇
.
中国专利
:CN111029398A
,2020-04-17
[4]
沟槽型功率MOSFET器件及其制造方法
[P].
朱袁正
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朱袁正
;
叶鹏
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叶鹏
;
刘晶晶
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刘晶晶
.
中国专利
:CN105957895A
,2016-09-21
[5]
沟槽栅功率MOSFET及其制造方法
[P].
颜树范
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颜树范
.
中国专利
:CN107527944B
,2017-12-29
[6]
沟槽型MOSFET器件及其制备方法
[P].
崔同
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崔同
;
万兴兴
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万兴兴
;
朱开兴
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朱开兴
;
加春雷
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加春雷
.
中国专利
:CN113594255A
,2021-11-02
[7]
沟槽型功率MOSFET器件
[P].
朱袁正
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朱袁正
;
叶鹏
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叶鹏
;
刘晶晶
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刘晶晶
.
中国专利
:CN205789991U
,2016-12-07
[8]
沟槽型大功率MOSFET器件
[P].
陈译
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陈译
;
陆佳顺
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陆佳顺
;
杨洁雯
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0
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杨洁雯
.
中国专利
:CN211654830U
,2020-10-09
[9]
沟槽栅功率MOSFET结构及其制造方法
[P].
柯行飞
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柯行飞
;
缪进征
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缪进征
.
中国专利
:CN106024894B
,2016-10-12
[10]
一种沟槽型双层栅功率MOSFET及其制造方法
[P].
黄伟
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黄伟
;
林伟铭
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林伟铭
.
中国专利
:CN114334661B
,2022-04-12
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