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干法刻蚀装置和方法
被引:0
申请号
:
CN202211202559.3
申请日
:
2022-09-28
公开(公告)号
:
CN115410893A
公开(公告)日
:
2022-11-29
发明(设计)人
:
高国浩
申请人
:
申请人地址
:
100000 北京市朝阳区南皋乡南皋村(北京市塑料三厂)
IPC主分类号
:
H01J3732
IPC分类号
:
代理机构
:
北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙) 11463
代理人
:
颜欢
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2022-11-29
公开
公开
2022-12-16
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H01J 37/32 申请日:20220928
共 50 条
[1]
干法刻蚀装置
[P].
高国浩
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
高国浩
.
中国专利
:CN218123350U
,2022-12-23
[2]
干法刻蚀机台及干法刻蚀方法
[P].
高鹏飞
论文数:
0
引用数:
0
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0
高鹏飞
;
丁玎
论文数:
0
引用数:
0
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0
丁玎
.
中国专利
:CN109755159B
,2019-05-14
[3]
干法刻蚀射频放电增强方法和干法刻蚀设备
[P].
张杰
论文数:
0
引用数:
0
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0
张杰
.
中国专利
:CN113394091A
,2021-09-14
[4]
干法刻蚀方法
[P].
丁向前
论文数:
0
引用数:
0
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0
丁向前
;
刘耀
论文数:
0
引用数:
0
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0
刘耀
;
陈曦
论文数:
0
引用数:
0
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0
陈曦
;
李梁梁
论文数:
0
引用数:
0
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0
李梁梁
;
白金超
论文数:
0
引用数:
0
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0
白金超
;
刘晓伟
论文数:
0
引用数:
0
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0
刘晓伟
.
中国专利
:CN103996621A
,2014-08-20
[5]
干法刻蚀方法
[P].
汪新学
论文数:
0
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0
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0
汪新学
;
王伟军
论文数:
0
引用数:
0
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0
王伟军
.
中国专利
:CN102254812A
,2011-11-23
[6]
干法刻蚀装置
[P].
单静静
论文数:
0
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0
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0
单静静
;
完颜俊雄
论文数:
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0
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0
完颜俊雄
;
豆海清
论文数:
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0
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0
豆海清
.
中国专利
:CN218101166U
,2022-12-20
[7]
干法刻蚀机台及干法刻蚀方法
[P].
李国强
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
广州市艾佛光通科技有限公司
广州市艾佛光通科技有限公司
李国强
;
衣新燕
论文数:
0
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0
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0
机构:
广州市艾佛光通科技有限公司
广州市艾佛光通科技有限公司
衣新燕
.
中国专利
:CN117096067B
,2024-03-01
[8]
干法刻蚀方法
[P].
吴智勇
论文数:
0
引用数:
0
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0
吴智勇
;
邱华军
论文数:
0
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0
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0
邱华军
.
中国专利
:CN102693911A
,2012-09-26
[9]
干法刻蚀方法
[P].
吴贤丰
论文数:
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0
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机构:
苏州山河光电科技有限公司
苏州山河光电科技有限公司
吴贤丰
;
延宇豪
论文数:
0
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0
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0
机构:
苏州山河光电科技有限公司
苏州山河光电科技有限公司
延宇豪
;
邱山峰
论文数:
0
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0
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0
机构:
苏州山河光电科技有限公司
苏州山河光电科技有限公司
邱山峰
;
孙磊
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
苏州山河光电科技有限公司
苏州山河光电科技有限公司
孙磊
.
中国专利
:CN119038485A
,2024-11-29
[10]
干法刻蚀方法
[P].
吴智勇
论文数:
0
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0
吴智勇
;
荆泉
论文数:
0
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荆泉
;
陈力钧
论文数:
0
引用数:
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0
陈力钧
.
中国专利
:CN109727857B
,2019-05-07
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