一种测量半导体薄膜材料光学带隙的方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN200910089681.2
申请日
2009-07-29
公开(公告)号
CN101609002B
公开(公告)日
2009-12-23
发明(设计)人
张晓勇 郭铁
申请人
申请人地址
065001 河北省廊坊市经济技术开发区华祥路106号
IPC主分类号
G01N2125
IPC分类号
G01N2141 G01B1106
代理机构
北京连城创新知识产权代理有限公司 11254
代理人
刘伍堂
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
一种测量半导体薄膜材料禁带宽度的方法 [P]. 
王珊珊 ;
杜建新 ;
朱城 ;
张鹏翔 ;
彭绍春 ;
于晓勇 ;
高培峰 ;
向卓 .
中国专利 :CN118329952B ,2024-11-29
[2]
一种测量半导体薄膜材料禁带宽度的方法 [P]. 
王珊珊 ;
杜建新 ;
朱城 ;
张鹏翔 ;
彭绍春 ;
于晓勇 ;
高培峰 ;
向卓 .
中国专利 :CN118329952A ,2024-07-12
[3]
一种半导体薄膜材料 [P]. 
郑之永 ;
谢致薇 ;
张雅丽 ;
杨元政 ;
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[4]
一种金属及半导体薄膜材料光学常数的标定方法 [P]. 
邓淞文 ;
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一种制作半导体薄膜材料的方法 [P]. 
李冬梅 ;
汪幸 ;
刘明 ;
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侯成诚 ;
闫学锋 ;
谢常青 ;
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[6]
一种测量半导体薄膜材料第一电子亲和势的方法 [P]. 
王珊珊 ;
杜建新 ;
朱城 ;
彭绍春 ;
于晓勇 ;
高培峰 ;
张鹏翔 ;
张雨桐 ;
蒋浩然 .
中国专利 :CN119224027B ,2025-03-11
[7]
一种测量半导体薄膜材料第一电子亲和势的方法 [P]. 
王珊珊 ;
杜建新 ;
朱城 ;
彭绍春 ;
于晓勇 ;
高培峰 ;
张鹏翔 ;
张用桐 ;
蒋浩然 .
中国专利 :CN119224027A ,2024-12-31
[8]
一种半导体薄膜材料电容特性的测量方法及装置 [P]. 
郭天瑛 ;
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中国专利 :CN102495295B ,2012-06-13
[9]
一种减小硫化铟半导体光学带隙的方法 [P]. 
赵春燕 ;
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中国专利 :CN112201710A ,2021-01-08
[10]
一种碳基半导体薄膜材料的制备方法 [P]. 
欧欣 ;
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