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半导体器件及其制造方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN99109248.1
申请日：
1999-06-01
公开(公告)号：
CN1237787A
公开(公告)日：
1999-12-08
发明(设计)人：
冈田纪雄
申请人：
申请人地址：
日本东京都
IPC主分类号：
H01L21768
IPC分类号：
H01L21283
H01L21314
H01L213205
H01L2352
代理机构：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人：
叶恺东
法律状态：
专利申请权、专利权的转移专利申请权的转移
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2003-06-04 | 专利申请权、专利权的转移专利申请权的转移 | 专利申请权、专利权的转移专利申请权的转移 变更事项:申请人 变更前权利人:日本电气株式会社 变更后权利人:恩益禧电子股份有限公司 变更事项:地址 变更前权利人:日本东京都 变更后权利人:日本神奈川县川崎市 登记生效日:20030410 |
| 2004-05-05 | 专利权的视为放弃 | 专利权的视为放弃 |
| 1999-12-08 | 公开 | 公开 |
| 1999-11-03 | 实质审查请求的生效 | 实质审查请求的生效 |