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半导体器件及其制造方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201710349520.7
申请日
:
2017-05-17
公开(公告)号
:
CN107871725A
公开(公告)日
:
2018-04-03
发明(设计)人
:
鸭岛隆夫
堀田孝次郎
松尾修志
申请人
:
申请人地址
:
日本东京都
IPC主分类号
:
H01L23522
IPC分类号
:
H01L21768
代理机构
:
北京市金杜律师事务所 11256
代理人
:
陈伟;闫剑平
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2018-04-03
公开
公开
2020-04-14
发明专利申请公布后的视为撤回
发明专利申请公布后的视为撤回 IPC(主分类):H01L 23/522 申请公布日:20180403
共 50 条
[1]
半导体器件及其制造方法
[P].
满生彰
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
满生彰
.
中国专利
:CN114388473A
,2022-04-22
[2]
半导体器件及其制造方法
[P].
佐甲隆
论文数:
0
引用数:
0
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0
佐甲隆
;
户田麻美
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
户田麻美
.
中国专利
:CN101132004B
,2008-02-27
[3]
半导体器件及其制造方法
[P].
森井胜巳
论文数:
0
引用数:
0
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0
森井胜巳
;
大津良孝
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
大津良孝
;
大西一真
论文数:
0
引用数:
0
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0
大西一真
;
新田哲也
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
新田哲也
;
城本龙也
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
城本龙也
;
德光成太
论文数:
0
引用数:
0
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0
德光成太
.
中国专利
:CN102157431A
,2011-08-17
[4]
半导体器件及其制造方法
[P].
山下朋弘
论文数:
0
引用数:
0
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0
山下朋弘
.
中国专利
:CN109473438A
,2019-03-15
[5]
半导体器件及其制造方法
[P].
饭沼俊彦
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
饭沼俊彦
.
中国专利
:CN1472820A
,2004-02-04
[6]
半导体器件及其制造方法
[P].
川村武志
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
川村武志
.
中国专利
:CN102939649B
,2013-02-20
[7]
半导体器件及其制造方法
[P].
王文生
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
王文生
.
中国专利
:CN101203953A
,2008-06-18
[8]
半导体器件及其制造方法
[P].
郑恩洙
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
郑恩洙
.
中国专利
:CN101471285B
,2009-07-01
[9]
半导体器件及其制造方法
[P].
冈田纪雄
论文数:
0
引用数:
0
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0
冈田纪雄
.
中国专利
:CN1237787A
,1999-12-08
[10]
半导体器件及其制造方法
[P].
黑田亮太
论文数:
0
引用数:
0
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0
黑田亮太
;
松浦仁
论文数:
0
引用数:
0
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0
松浦仁
.
中国专利
:CN114520226A
,2022-05-20
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