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半导体器件及其制造方法
被引:0
申请号
:
CN202210312176.5
申请日
:
2022-03-28
公开(公告)号
:
CN115623789A
公开(公告)日
:
2023-01-17
发明(设计)人
:
具元泰
韩在贤
申请人
:
申请人地址
:
韩国京畿道
IPC主分类号
:
H10B4335
IPC分类号
:
H10B4327
H10B4135
H10B4127
代理机构
:
北京弘权知识产权代理有限公司 11363
代理人
:
许伟群;李少丹
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2023-02-10
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H10B 43/35 申请日:20220328
2023-01-17
公开
公开
共 50 条
[1]
半导体器件及其制造方法
[P].
柴田宽
论文数:
0
引用数:
0
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0
柴田宽
;
矶部敦生
论文数:
0
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0
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0
矶部敦生
.
中国专利
:CN1979877B
,2007-06-13
[2]
半导体器件及其制造方法
[P].
张哲诚
论文数:
0
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张哲诚
;
林志翰
论文数:
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林志翰
.
中国专利
:CN105845578A
,2016-08-10
[3]
半导体器件及其制造方法
[P].
朴范琎
论文数:
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0
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机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
朴范琎
;
姜明吉
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0
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机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
姜明吉
;
金洞院
论文数:
0
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机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
金洞院
;
金永权
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机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
金永权
;
金钟守
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机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
金钟守
;
庾烋旻
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机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
庾烋旻
;
郑秀真
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0
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机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
郑秀真
.
韩国专利
:CN119300461A
,2025-01-10
[4]
半导体器件及其制造方法
[P].
李炳训
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机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
李炳训
;
朴钟昊
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机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
朴钟昊
;
金完敦
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机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
金完敦
;
玄尚镇
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机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
玄尚镇
.
韩国专利
:CN111668308B
,2025-06-10
[5]
半导体器件及其制造方法
[P].
柴田宽
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柴田宽
;
矶部敦生
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矶部敦生
.
中国专利
:CN1697179A
,2005-11-16
[6]
半导体器件及其制造方法
[P].
安佑松
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安佑松
;
李相惇
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李相惇
;
吴容哲
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吴容哲
.
中国专利
:CN113130493B
,2021-07-16
[7]
半导体器件及其制造方法
[P].
赵冬雪
论文数:
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机构:
长江存储科技有限责任公司
长江存储科技有限责任公司
赵冬雪
;
杨远程
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机构:
长江存储科技有限责任公司
长江存储科技有限责任公司
杨远程
;
杨涛
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机构:
长江存储科技有限责任公司
长江存储科技有限责任公司
杨涛
;
孙昌志
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长江存储科技有限责任公司
长江存储科技有限责任公司
孙昌志
;
刘威
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机构:
长江存储科技有限责任公司
长江存储科技有限责任公司
刘威
;
夏志良
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机构:
长江存储科技有限责任公司
长江存储科技有限责任公司
夏志良
;
霍宗亮
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机构:
长江存储科技有限责任公司
长江存储科技有限责任公司
霍宗亮
.
中国专利
:CN119999351A
,2025-05-13
[8]
半导体器件及其制造方法
[P].
姜泰旭
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姜泰旭
;
郑仓龙
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郑仓龙
;
金昌树
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金昌树
;
徐昌秀
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徐昌秀
;
朴汶熙
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朴汶熙
.
中国专利
:CN1725511A
,2006-01-25
[9]
半导体器件及其制造方法
[P].
柴田宽
论文数:
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柴田宽
;
矶部敦生
论文数:
0
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矶部敦生
.
中国专利
:CN101150135B
,2008-03-26
[10]
半导体器件及其制造方法
[P].
崔贤根
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机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
崔贤根
;
李基硕
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机构:
三星电子株式会社
三星电子株式会社
李基硕
.
韩国专利
:CN118434158A
,2024-08-02
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