梳型栅结构HEMT射频器件及其制备方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202110511019.2
申请日
2021-05-11
公开(公告)号
CN113257910B
公开(公告)日
2021-08-13
发明(设计)人
孙慧卿 丁霄 黄志辉 王鹏霖 李渊 夏晓宇 夏凡 张淼 马建铖 谭秀洋
申请人
申请人地址
510630 广东省广州市天河区中山大道西55号半导体科学与技术研究院
IPC主分类号
H01L29778
IPC分类号
H01L29423 H01L21335
代理机构
北京清控智云知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11919
代理人
仵乐娟
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
双渐变沟道结构HEMT射频器件及其制备方法 [P]. 
孙慧卿 ;
丁霄 ;
王鹏霖 ;
黄志辉 ;
郭志友 .
中国专利 :CN112993031A ,2021-06-18
[2]
插指栅结构的HEMT射频器件 [P]. 
李利哲 ;
李增林 ;
王国斌 .
中国专利 :CN218414587U ,2023-01-31
[3]
凹槽栅型GaN基HEMT器件及其制备方法 [P]. 
邹鹏辉 ;
王文博 ;
马飞 .
中国专利 :CN117438457A ,2024-01-23
[4]
凹槽栅型GaN基HEMT器件及其制备方法 [P]. 
邹鹏辉 ;
王文博 ;
马飞 .
中国专利 :CN117438457B ,2024-03-22
[5]
具有栅漏复合阶梯场板结构的增强型HEMT射频器件及其制备方法 [P]. 
孙慧卿 ;
夏凡 ;
李渊 ;
夏晓宇 ;
谭秀洋 ;
张淼 ;
马建铖 ;
黄志辉 ;
王鹏霖 ;
丁霄 .
中国专利 :CN113178480A ,2021-07-27
[6]
具有空腔栅结构的GaN HEMT器件及其制备方法 [P]. 
周国 ;
谭永亮 ;
高渊 ;
吕鑫 ;
张力江 ;
崔玉兴 .
中国专利 :CN114121654A ,2022-03-01
[7]
HEMT射频器件的制作方法及HEMT射频器件 [P]. 
王晶晶 ;
钟杰斌 .
中国专利 :CN116313797B ,2025-08-15
[8]
射频器件及其制备方法 [P]. 
刘洋 ;
刘张李 ;
蒙飞 .
中国专利 :CN120936098A ,2025-11-11
[9]
一种具有支撑结构的浮空T型栅HEMT器件及其制备方法 [P]. 
王东 ;
郭昂 ;
陈兴 ;
吴勇 ;
黄永 ;
常焕堉 ;
李永军 .
中国专利 :CN118156131A ,2024-06-07
[10]
一种增强型GaN HEMT射频器件及其制备方法 [P]. 
李国强 ;
吴能滔 ;
邢志恒 ;
李善杰 ;
曾凡翊 ;
罗玲 .
中国专利 :CN114373798B ,2025-09-26