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HEMT射频器件的制作方法及HEMT射频器件
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202310296750.7
申请日
:
2023-03-24
公开(公告)号
:
CN116313797B
公开(公告)日
:
2025-08-15
发明(设计)人
:
王晶晶
钟杰斌
申请人
:
厦门市三安集成电路有限公司
申请人地址
:
361000 福建省厦门市同安区洪塘镇民安大道753-799号
IPC主分类号
:
H10D30/01
IPC分类号
:
H10D30/47
代理机构
:
厦门市首创君合专利事务所有限公司 35204
代理人
:
陈淑娴
法律状态
:
授权
国省代码
:
江苏省 常州市
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-08-15
授权
授权
共 50 条
[1]
一种HEMT射频器件及其制作方法
[P].
王晶晶
论文数:
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0
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机构:
厦门市三安集成电路有限公司
厦门市三安集成电路有限公司
王晶晶
;
钟杰斌
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机构:
厦门市三安集成电路有限公司
厦门市三安集成电路有限公司
钟杰斌
.
中国专利
:CN116314321B
,2024-08-09
[2]
HEMT器件的制作方法及HEMT器件
[P].
李敏
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机构:
上海应用技术大学
上海应用技术大学
李敏
;
尹欢
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机构:
上海应用技术大学
上海应用技术大学
尹欢
;
赵雨佳
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机构:
上海应用技术大学
上海应用技术大学
赵雨佳
;
于志强
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机构:
上海应用技术大学
上海应用技术大学
于志强
;
荆学东
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机构:
上海应用技术大学
上海应用技术大学
荆学东
.
中国专利
:CN120475731A
,2025-08-12
[3]
一种HEMT射频器件及其制作方法
[P].
刘胜厚
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刘胜厚
;
蔡文必
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蔡文必
;
孙希国
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孙希国
;
蔡仙清
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蔡仙清
;
张辉
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张辉
.
中国专利
:CN113113483A
,2021-07-13
[4]
一种氮化物HEMT射频器件及其制作方法
[P].
刘胜厚
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刘胜厚
;
蔡文必
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蔡文必
;
孙希国
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孙希国
.
中国专利
:CN112736129A
,2021-04-30
[5]
一种氮化镓基HEMT射频器件及其制作方法
[P].
刘胜厚
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刘胜厚
;
孙希国
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孙希国
;
蔡仙清
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蔡仙清
;
张辉
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张辉
.
中国专利
:CN112736127A
,2021-04-30
[6]
插指栅结构的HEMT射频器件
[P].
李利哲
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李利哲
;
李增林
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李增林
;
王国斌
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王国斌
.
中国专利
:CN218414587U
,2023-01-31
[7]
GaN HEMT射频器件及其栅极自对准制备方法
[P].
李海鸥
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李海鸥
;
康维华
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康维华
;
首照宇
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首照宇
;
高喜
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高喜
;
丁志华
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丁志华
;
莫如愚
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莫如愚
;
李琦
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李琦
;
肖功利
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肖功利
;
蒋行国
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蒋行国
;
翟江辉
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翟江辉
;
徐卫林
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徐卫林
.
中国专利
:CN105428236A
,2016-03-23
[8]
一种氮化镓基HEMT器件及其制作方法
[P].
江灵荣
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机构:
上海新微半导体有限公司
上海新微半导体有限公司
江灵荣
;
王玮竹
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机构:
上海新微半导体有限公司
上海新微半导体有限公司
王玮竹
;
任芳
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机构:
上海新微半导体有限公司
上海新微半导体有限公司
任芳
.
中国专利
:CN119132953A
,2024-12-13
[9]
HEMT器件及其制造方法
[P].
张乃千
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张乃千
.
中国专利
:CN103441144B
,2013-12-11
[10]
梳型栅结构HEMT射频器件及其制备方法
[P].
孙慧卿
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孙慧卿
;
丁霄
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丁霄
;
黄志辉
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黄志辉
;
王鹏霖
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王鹏霖
;
李渊
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李渊
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夏晓宇
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夏晓宇
;
夏凡
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夏凡
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张淼
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张淼
;
马建铖
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马建铖
;
谭秀洋
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谭秀洋
.
中国专利
:CN113257910B
,2021-08-13
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