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一种双快门分子束外延源炉系统及分子束外延设备
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202110683800.8
申请日
:
2021-06-21
公开(公告)号
:
CN113463189A
公开(公告)日
:
2021-10-01
发明(设计)人
:
杜鹏
龚欣
付宏伟
魏唯
陈峰武
肖慧
宁澍
陈长平
申请人
:
申请人地址
:
410000 湖南省长沙市高新开发区岳麓西大道1698号麓谷科技创新创业园A1栋1-1023房
IPC主分类号
:
C30B2302
IPC分类号
:
代理机构
:
工业和信息化部电子专利中心 11010
代理人
:
焉明涛
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2021-10-26
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):C30B 23/02 申请日:20210621
2021-10-01
公开
公开
共 50 条
[1]
分子束外延用源炉以及分子束外延设备
[P].
论文数:
引用数:
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机构:
张亚宾
;
袁敏
论文数:
0
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机构:
中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
袁敏
;
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机构:
王利
;
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机构:
魏伟
;
凌小伦
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机构:
中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
凌小伦
;
论文数:
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机构:
张珽
.
中国专利
:CN221854738U
,2024-10-18
[2]
分子束外延设备的源炉及分子束外延设备
[P].
彭长四
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机构:
埃特曼(厦门)光电科技有限公司
埃特曼(厦门)光电科技有限公司
彭长四
;
周均铭
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机构:
埃特曼(厦门)光电科技有限公司
埃特曼(厦门)光电科技有限公司
周均铭
;
倪健
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机构:
埃特曼(厦门)光电科技有限公司
埃特曼(厦门)光电科技有限公司
倪健
.
中国专利
:CN220867575U
,2024-04-30
[3]
分子束外延设备的源炉及分子束外延设备
[P].
彭长四
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机构:
埃特曼(厦门)光电科技有限公司
埃特曼(厦门)光电科技有限公司
彭长四
;
周均铭
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机构:
埃特曼(厦门)光电科技有限公司
埃特曼(厦门)光电科技有限公司
周均铭
;
倪健
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机构:
埃特曼(厦门)光电科技有限公司
埃特曼(厦门)光电科技有限公司
倪健
.
中国专利
:CN220788877U
,2024-04-16
[4]
一种三状态分子束外延用束源炉快门
[P].
杜鹏
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杜鹏
;
龚欣
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龚欣
;
付宏伟
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付宏伟
;
魏唯
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魏唯
;
陈峰武
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陈峰武
;
王慧勇
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王慧勇
;
肖慧
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肖慧
;
宁澍
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宁澍
;
陈长平
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陈长平
.
中国专利
:CN112746318B
,2021-05-04
[5]
快门装置及分子束外延设备
[P].
楼厦
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机构:
迪希埃(北京)半导体技术有限公司
迪希埃(北京)半导体技术有限公司
楼厦
;
倪健
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机构:
迪希埃(北京)半导体技术有限公司
迪希埃(北京)半导体技术有限公司
倪健
;
赵金堂
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机构:
迪希埃(北京)半导体技术有限公司
迪希埃(北京)半导体技术有限公司
赵金堂
.
中国专利
:CN223660287U
,2025-12-12
[6]
快门装置及分子束外延设备
[P].
楼厦
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机构:
迪希埃(北京)半导体技术有限公司
迪希埃(北京)半导体技术有限公司
楼厦
;
倪健
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机构:
迪希埃(北京)半导体技术有限公司
迪希埃(北京)半导体技术有限公司
倪健
;
赵金堂
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机构:
迪希埃(北京)半导体技术有限公司
迪希埃(北京)半导体技术有限公司
赵金堂
.
中国专利
:CN119571449A
,2025-03-07
[7]
源炉装置及分子束外延设备
[P].
楼厦
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机构:
埃特曼半导体技术有限公司
埃特曼半导体技术有限公司
楼厦
;
王旭光
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机构:
埃特曼半导体技术有限公司
埃特曼半导体技术有限公司
王旭光
;
董海云
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机构:
埃特曼半导体技术有限公司
埃特曼半导体技术有限公司
董海云
;
倪健
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机构:
埃特曼半导体技术有限公司
埃特曼半导体技术有限公司
倪健
.
中国专利
:CN221028781U
,2024-05-28
[8]
一种MBE分子束外延束源炉
[P].
赵俊华
论文数:
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赵俊华
.
中国专利
:CN206328491U
,2017-07-14
[9]
分子束外延设备的样品台及分子束外延设备
[P].
楼厦
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机构:
埃特曼(北京)半导体技术有限公司
埃特曼(北京)半导体技术有限公司
楼厦
;
倪健
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机构:
埃特曼(北京)半导体技术有限公司
埃特曼(北京)半导体技术有限公司
倪健
;
赵金堂
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机构:
埃特曼(北京)半导体技术有限公司
埃特曼(北京)半导体技术有限公司
赵金堂
.
中国专利
:CN120425453A
,2025-08-05
[10]
源炉挡板装置及分子束外延设备
[P].
彭长四
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机构:
埃特曼(厦门)光电科技有限公司
埃特曼(厦门)光电科技有限公司
彭长四
;
周均铭
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机构:
埃特曼(厦门)光电科技有限公司
埃特曼(厦门)光电科技有限公司
周均铭
;
董海云
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机构:
埃特曼(厦门)光电科技有限公司
埃特曼(厦门)光电科技有限公司
董海云
;
倪健
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机构:
埃特曼(厦门)光电科技有限公司
埃特曼(厦门)光电科技有限公司
倪健
.
中国专利
:CN220867574U
,2024-04-30
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