源炉挡板装置及分子束外延设备

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN202322680505.4

申请日：

2023-10-08

公开(公告)号：

CN220867574U

公开(公告)日：

2024-04-30

发明(设计)人：

彭长四周均铭董海云倪健

申请人：

埃特曼（厦门）光电科技有限公司

申请人地址：

361000 福建省厦门市集美区后溪镇金岭北路159-7号102室

IPC主分类号：

C30B23/02

IPC分类号：

C30B25/08

代理机构：

苏州锦尚知识产权代理事务所(普通合伙) 32502

代理人：

朱磊;李洋

法律状态：

授权

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-04-30	授权	授权

共 50 条

[1]

分子束外延设备的源炉及分子束外延设备 [P].

彭长四 ;

周均铭 ;

倪健 .

中国专利 :CN220788877U ,2024-04-16

[2]

源炉装置及分子束外延设备 [P].

楼厦 ;

王旭光 ;

董海云 ;

倪健 .

中国专利 :CN221028781U ,2024-05-28

[3]

分子束外延设备的源炉及分子束外延设备 [P].

彭长四 ;

周均铭 ;

倪健 .

中国专利 :CN220867575U ,2024-04-30

[4]

分子束外延用源炉以及分子束外延设备 [P].

张亚宾 ;

袁敏 ;

王利 ;

魏伟 ;

凌小伦 ;

张珽 .

中国专利 :CN221854738U ,2024-10-18

[5]

隔离装置及分子束外延设备 [P].

楼厦 ;

薛聪 ;

倪健 .

中国专利 :CN220724410U ,2024-04-05

[6]

束流探测装置及分子束外延设备 [P].

楼厦 ;

王旭光 ;

董海云 ;

倪健 .

中国专利 :CN221039441U ,2024-05-28

[7]

分子束外延设备及分子束外延设备的控制方法 [P].

彭长四 ;

周均铭 ;

杨晓楠 ;

倪健 .

中国专利 :CN117403323A ,2024-01-16

[8]

裂解源炉和分子束外延设备 [P].

董海云 ;

倪健 ;

薛聪 .

中国专利 :CN218321746U ,2023-01-17

[9]

分子束外延设备 [P].

楼厦 ;

薛聪 ;

倪健 .

中国专利 :CN220746138U ,2024-04-09

[10]

一种双快门分子束外延源炉系统及分子束外延设备 [P].

杜鹏 ;

龚欣 ;

付宏伟 ;

魏唯 ;

陈峰武 ;

肖慧 ;

宁澍 ;

陈长平 .

中国专利 :CN113463189A ,2021-10-01

← 1 2 3 4 5 →