共 50 条
[1]
[2]
[3]
[4]
[5]
[6]
[7]
[8]
[9]
[10]
曝光装置、曝光方法、半导体器件及其制造方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN201810982415.1
申请日：
2018-08-27
公开(公告)号：
CN110244517A
公开(公告)日：
2019-09-17
发明(设计)人：
陈勇辉
张俊
申请人：
申请人地址：
201203 上海市浦东新区自由贸易试验区张东路1525号
IPC主分类号：
G03F720
IPC分类号：
代理机构：
北京品源专利代理有限公司 11332
代理人：
孟金喆
法律状态：
实质审查的生效
国省代码：
引用
下载
收藏
法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2019-10-15 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20180827 |
| 2019-09-17 | 公开 | 公开 |