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制备自支撑GaN衬底的自分离方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201811022456.2
申请日
:
2018-09-03
公开(公告)号
:
CN109023516A
公开(公告)日
:
2018-12-18
发明(设计)人
:
修向前
李悦文
张荣
华雪梅
谢自力
陈鹏
刘斌
施毅
郑有炓
申请人
:
申请人地址
:
210000 江苏省南京市鼓楼区汉口路22号
IPC主分类号
:
C30B2518
IPC分类号
:
C30B2940
代理机构
:
江苏斐多律师事务所 32332
代理人
:
张佳妮
法律状态
:
发明专利申请公布后的驳回
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2022-07-22
发明专利申请公布后的驳回
发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):C30B 25/18 申请公布日:20181218
2019-01-11
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):C30B 25/18 申请日:20180903
2018-12-18
公开
公开
共 50 条
[1]
制备GaN衬底的自分离方法
[P].
修向前
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修向前
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李悦文
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李悦文
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张荣
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张荣
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华雪梅
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华雪梅
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谢自力
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谢自力
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陈鹏
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陈鹏
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刘斌
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刘斌
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施毅
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施毅
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郑有炓
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郑有炓
.
中国专利
:CN109023515A
,2018-12-18
[2]
一种制备自支撑GaN衬底材料的方法
[P].
修向前
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修向前
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李悦文
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李悦文
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张荣
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张荣
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华雪梅
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华雪梅
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谢自力
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谢自力
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陈鹏
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陈鹏
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韩平
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韩平
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陆海
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陆海
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施毅
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施毅
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郑有炓
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郑有炓
.
中国专利
:CN107611004A
,2018-01-19
[3]
基于铝酸锶薄膜制备GaN自分离衬底的方法
[P].
修向前
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修向前
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朱宇霞
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朱宇霞
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陶涛
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陶涛
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张荣
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张荣
.
中国专利
:CN114420534A
,2022-04-29
[4]
GaN自支撑衬底的制备方法
[P].
闫其昂
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闫其昂
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范光华
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范光华
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沈蔚
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沈蔚
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邢怀勇
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邢怀勇
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杨敏
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杨敏
.
中国专利
:CN111430220A
,2020-07-17
[5]
一种制备GaN衬底材料的方法
[P].
修向前
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修向前
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李悦文
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李悦文
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熊则宁
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熊则宁
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张荣
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张荣
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华雪梅
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华雪梅
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谢自力
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谢自力
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陈鹏
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陈鹏
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韩平
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韩平
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陆海
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陆海
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施毅
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施毅
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郑有炓
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郑有炓
.
中国专利
:CN109056058A
,2018-12-21
[6]
一种制备GaN衬底材料的方法
[P].
修向前
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修向前
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李悦文
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李悦文
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熊则宁
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熊则宁
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张荣
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张荣
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华雪梅
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谢自力
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谢自力
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陈鹏
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陈鹏
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韩平
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韩平
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陆海
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陆海
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施毅
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施毅
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郑有炓
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郑有炓
.
中国专利
:CN107587190A
,2018-01-16
[7]
一种在蓝宝石衬底上制备自支撑GaN单晶衬底的方法
[P].
张雷
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山东晶镓半导体有限公司
山东晶镓半导体有限公司
张雷
;
齐占国
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山东晶镓半导体有限公司
山东晶镓半导体有限公司
齐占国
;
俞娇仙
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山东晶镓半导体有限公司
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俞娇仙
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王守志
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山东晶镓半导体有限公司
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王守志
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王国栋
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山东晶镓半导体有限公司
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王国栋
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刘磊
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山东晶镓半导体有限公司
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刘磊
.
中国专利
:CN115992385B
,2025-03-14
[8]
自支撑氮化镓衬底的制作方法
[P].
任俊杰
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东莞市中镓半导体科技有限公司
东莞市中镓半导体科技有限公司
任俊杰
;
王帅
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机构:
东莞市中镓半导体科技有限公司
东莞市中镓半导体科技有限公司
王帅
.
中国专利
:CN113903655B
,2025-12-05
[9]
自支撑氮化镓衬底的制作方法
[P].
任俊杰
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任俊杰
;
王帅
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王帅
.
中国专利
:CN113903655A
,2022-01-07
[10]
制备大尺寸GaN自支撑衬底的方法
[P].
胡强
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胡强
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段瑞飞
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段瑞飞
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魏同波
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魏同波
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杨建坤
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杨建坤
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霍自强
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霍自强
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曾一平
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曾一平
.
中国专利
:CN102031560A
,2011-04-27
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