激光脉冲沉积法制备Cu扩散掺杂ZnO基半导体的方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201110143396.1
申请日
2011-05-31
公开(公告)号
CN102372500A
公开(公告)日
2012-03-14
发明(设计)人
方庆清 张瀚铭
申请人
申请人地址
230039 安徽省合肥市肥西路3号
IPC主分类号
C04B4150
IPC分类号
代理机构
代理人
法律状态
发明专利申请公布后的视为撤回
国省代码
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共 50 条
[1]
脉冲激光沉积法制备Al-N共掺杂P型ZnO薄膜 [P]. 
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[3]
激光脉冲沉积技术制备氮化镓纳米线的方法 [P]. 
王如志 ;
王宇清 ;
严辉 ;
王波 ;
张铭 ;
宋雪梅 ;
朱满康 ;
侯育冬 ;
刘晶冰 ;
汪浩 .
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[4]
一种掺杂磁性半导体梯度材料的制备方法 [P]. 
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白国华 ;
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[5]
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[6]
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上原譲 .
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[7]
P型半导体氧化锌薄膜,其制备方法,和使用透明基片的脉冲激光沉积方法 [P]. 
刘冰 ;
胡振东 ;
车勇 ;
上原譲 .
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[8]
p型掺杂ZnO基稀磁半导体材料及制备方法 [P]. 
严密 ;
顾浩 ;
马天宇 ;
罗伟 .
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[9]
避免Cu扩散的半导体封装结构的制备方法 [P]. 
蔡奇风 ;
陈彦亨 ;
王玲 .
中国专利 :CN120237018A ,2025-07-01
[10]
避免Cu扩散的半导体封装结构的制备方法 [P]. 
蔡奇风 ;
陈彦亨 ;
王玲 .
中国专利 :CN120237012A ,2025-07-01