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半导体元件和制造半导体元件的方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201310317338.5
申请日
:
2013-07-25
公开(公告)号
:
CN103700650B
公开(公告)日
:
2014-04-02
发明(设计)人
:
约阿希姆·魏尔斯
凯夫尼·布埃越克塔斯
弗朗茨·赫尔莱尔
安东·毛德
申请人
:
申请人地址
:
奥地利菲拉赫
IPC主分类号
:
H01L2364
IPC分类号
:
H01L2102
代理机构
:
北京康信知识产权代理有限责任公司 11240
代理人
:
余刚;吴孟秋
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2014-04-30
实质审查的生效
实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101581899193 IPC(主分类):H01L 23/64 专利申请号:2013103173385 申请日:20130725
2014-04-02
公开
公开
2017-06-09
授权
授权
共 50 条
[1]
半导体元件和半导体元件的制造方法
[P].
村川贤太郎
论文数:
0
引用数:
0
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0
村川贤太郎
.
中国专利
:CN114600248A
,2022-06-07
[2]
半导体元件和半导体元件的制造方法
[P].
西村武义
论文数:
0
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0
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0
西村武义
.
中国专利
:CN106449638A
,2017-02-22
[3]
半导体元件的制造方法和半导体元件
[P].
三宅泰人
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三宅泰人
;
广山良治
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广山良治
;
畑雅幸
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畑雅幸
.
中国专利
:CN101369528A
,2009-02-18
[4]
半导体元件和半导体元件的制造方法
[P].
村川贤太郎
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引用数:
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机构:
京瓷株式会社
京瓷株式会社
村川贤太郎
.
日本专利
:CN114600248B
,2025-04-22
[5]
半导体元件的制造方法和半导体元件
[P].
松浦文章
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松浦文章
;
佐藤知稔
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佐藤知稔
.
中国专利
:CN105706215B
,2016-06-22
[6]
半导体元件的制造方法、半导体元件
[P].
津波大介
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津波大介
;
西泽弘一郎
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西泽弘一郎
.
中国专利
:CN103789764B
,2014-05-14
[7]
半导体元件、半导体元件的制造方法
[P].
前田和弘
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前田和弘
;
志贺俊彦
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志贺俊彦
.
中国专利
:CN104124220B
,2014-10-29
[8]
半导体元件的制造方法、半导体元件
[P].
土屋裕彰
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土屋裕彰
;
山口晴央
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山口晴央
;
中井荣治
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中井荣治
.
中国专利
:CN107528215B
,2017-12-29
[9]
半导体元件、半导体元件的制造方法
[P].
高桥卓也
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高桥卓也
;
楢崎敦司
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楢崎敦司
;
高桥彻雄
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高桥彻雄
.
中国专利
:CN104241398A
,2014-12-24
[10]
半导体元件和用于制造半导体元件的方法
[P].
M·瓦佩尔
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M·瓦佩尔
;
B·克诺特
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B·克诺特
;
H·托伊斯
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H·托伊斯
.
中国专利
:CN109637982A
,2019-04-16
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