氧化物烧结体、包含该烧结体的溅射靶、该烧结体的制造方法及该烧结体溅射靶的制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200980126562.8

申请日：

2009-06-23

公开(公告)号：

CN102089256A

公开(公告)日：

2011-06-08

发明(设计)人：

佐藤和幸小井土由将

申请人：

申请人地址：

日本东京

IPC主分类号：

C04B3500

IPC分类号：

C04B3550 C23C1434

代理机构：

中原信达知识产权代理有限责任公司 11219

代理人：

王海川;穆德骏

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2011-06-08	公开	公开
2015-07-01	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101717062647 IPC(主分类):C23C 14/34 专利申请号:2009801265628 申请公布日:20110608
2011-07-20	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101089509622 IPC(主分类):C04B 35/00 专利申请号:2009801265628 申请日:20090623

共 50 条

[1]

氧化镧基烧结体、包含该烧结体的溅射靶、氧化镧基烧结体的制造方法及通过该制造方法制造溅射靶的方法 [P].

佐藤和幸 ;

小井土由将 .

中国专利 :CN102089258A ,2011-06-08

[2]

氧化物烧结体、该烧结体的制造方法及溅射靶 [P].

笘井重和 ;

井上一吉 ;

江端一晃 ;

柴田雅敏 ;

宇都野太 ;

霍间勇辉 ;

石原悠 .

中国专利 :CN115340360A ,2022-11-15

[3]

氧化物烧结体、该烧结体的制造方法及溅射靶 [P].

笘井重和 ;

井上一吉 ;

江端一晃 ;

柴田雅敏 ;

宇都野太 ;

霍间勇辉 ;

石原悠 .

中国专利 :CN105873881A ,2016-08-17

[4]

氧化物烧结体和包含该氧化物烧结体的溅射靶 [P].

山口洋平 ;

栗原敏也 ;

角田浩二 .

中国专利 :CN107428616A ,2017-12-01

[5]

氧化物烧结体和包含该氧化物烧结体的溅射靶 [P].

角田浩二 ;

长田幸三 .

中国专利 :CN105209405B ,2015-12-30

[6]

氧化物烧结体以及包含该氧化物烧结体的溅射靶 [P].

山口洋平 ;

角田浩二 .

中国专利 :CN107428617A ,2017-12-01

[7]

烧结体和包含该烧结体的溅射靶以及使用该溅射靶形成的薄膜 [P].

奈良淳史 .

中国专利 :CN107012435B ,2017-08-04

[8]

烧结体、溅射靶及烧结体的制造方法 [P].

秀岛正章 ;

角田浩二 .

中国专利 :CN110937891A ,2020-03-31

[9]

氧化物烧结体、溅射靶及溅射靶的制造方法 [P].

海上晓 .

中国专利 :CN113423860A ,2021-09-21

[10]

氧化物烧结体、溅射靶以及溅射靶的制造方法 [P].

海上晓 .

中国专利 :CN113677821A ,2021-11-19

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