氧化物烧结体、该烧结体的制造方法及溅射靶

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201480070391.2

申请日：

2014-12-18

公开(公告)号：

CN105873881A

公开(公告)日：

2016-08-17

发明(设计)人：

笘井重和井上一吉江端一晃柴田雅敏宇都野太霍间勇辉石原悠

申请人：

申请人地址：

日本国东京都

IPC主分类号：

C04B3500

IPC分类号：

C23C1408 C23C1434 H01L21363

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人：

王永红

法律状态：

公开

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2016-08-17	公开	公开
2017-01-11	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101697363009 IPC(主分类):C04B 35/00 专利申请号:2014800703912 申请日:20141218

共 50 条

[1]

氧化物烧结体、该烧结体的制造方法及溅射靶 [P].

笘井重和 ;

井上一吉 ;

江端一晃 ;

柴田雅敏 ;

宇都野太 ;

霍间勇辉 ;

石原悠 .

中国专利 :CN115340360A ,2022-11-15

[2]

氧化物烧结体、包含该烧结体的溅射靶、该烧结体的制造方法及该烧结体溅射靶的制造方法 [P].

佐藤和幸 ;

小井土由将 .

中国专利 :CN102089256A ,2011-06-08

[3]

氧化物烧结体、溅射靶及溅射靶的制造方法 [P].

海上晓 .

中国专利 :CN113423860A ,2021-09-21

[4]

氧化物烧结体和包含该氧化物烧结体的溅射靶 [P].

山口洋平 ;

栗原敏也 ;

角田浩二 .

中国专利 :CN107428616A ,2017-12-01

[5]

氧化物烧结体和包含该氧化物烧结体的溅射靶 [P].

角田浩二 ;

长田幸三 .

中国专利 :CN105209405B ,2015-12-30

[6]

氧化物烧结体以及包含该氧化物烧结体的溅射靶 [P].

山口洋平 ;

角田浩二 .

中国专利 :CN107428617A ,2017-12-01

[7]

氧化物烧结体及溅射靶 [P].

后藤裕史 ;

岩崎祐纪 ;

得平雅也 ;

米田阳一郎 .

中国专利 :CN103201232B ,2013-07-10

[8]

氧化物烧结体及溅射靶 [P].

后藤裕史 ;

岩崎祐纪 .

中国专利 :CN103415488A ,2013-11-27

[9]

氧化物烧结体及溅射靶 [P].

松元谦士 ;

井上雅树 ;

中村信一郎 ;

矢野智泰 .

中国专利 :CN110741106A ,2020-01-31

[10]

氧化物烧结体及溅射靶 [P].

西山功兵 ;

田尾幸树 .

中国专利 :CN110636996B ,2019-12-31

← 1 2 3 4 5 →