一种SIC晶圆减薄用钻石研磨液及其制备方法

被引：0

申请号：

CN202211180518.9

申请日：

2022-09-27

公开(公告)号：

CN115449347A

公开(公告)日：

2022-12-09

发明(设计)人：

向定艾

申请人：

申请人地址：

618000 四川省德阳市旌阳区天元镇(景福)秋月村四组6幢

IPC主分类号：

C09K314

IPC分类号：

代理机构：

成都汇浪淘知识产权代理事务所(普通合伙) 51381

代理人：

陈莉

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-12-27	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C09K 3/14 申请日:20220927
2022-12-09	公开	公开

共 50 条

[1]

一种SiC晶圆切割用钻石切割液及其制备方法 [P].

向定艾 .

中国专利 :CN115505452A ,2022-12-23

[2]

一种钙钛矿减薄液及其制备方法 [P].

雷雨声 ;

沈承勇 ;

徐彪 ;

赵武燕 ;

吴燕秋 .

中国专利 :CN120889030A ,2025-11-04

[3]

一种稳定悬浮的水性钻石研磨液及其制备方法 [P].

刘小勇 ;

吴远超 ;

房龙翔 ;

连文芳 ;

肖小江 ;

刘文生 .

中国专利 :CN119505708A ,2025-02-25

[4]

一种研磨液用凝胶组合物及其制备方法 [P].

田乐 ;

朱晓森 ;

常亚昕 ;

王伟超 ;

刘毅 .

中国专利 :CN118620578A ,2024-09-10

[5]

一种SIC晶圆CMP抛光用氧化铝抛光液及其制备方法 [P].

向定艾 .

中国专利 :CN115418170A ,2022-12-02

[6]

一种用于碳化硅衬底研磨的钻石研磨液及其研磨方法 [P].

孙蕊蕊 ;

罗浩宁 ;

姜霁涛 ;

何慧龄 ;

牛娟娟 ;

王忠海 ;

马明兰 ;

火雅茹 .

中国专利 :CN120041150A ,2025-05-27

[7]

一种晶圆减薄压敏胶及其制备方法 [P].

刘秀棉 ;

王建斌 ;

陈田安 ;

解海华 .

中国专利 :CN103571367B ,2014-02-12

[8]

一种金刚石研磨液及其制备方法 [P].

周群飞 ;

饶桥兵 ;

李强 .

中国专利 :CN108219678A ,2018-06-29

[9]

一种PCB用高速减薄铜液及制备方法 [P].

李学义 ;

魏代圣 ;

安小英 .

中国专利 :CN108505042A ,2018-09-07

[10]

一种研磨抛光工序用研磨液及其制备方法 [P].

陈良伦 ;

陈小宴 .

中国专利 :CN114774081A ,2022-07-22

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