一种SIC晶圆CMP抛光用氧化铝抛光液及其制备方法

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申请号
CN202211179188.1
申请日
2022-09-27
公开(公告)号
CN115418170A
公开(公告)日
2022-12-02
发明(设计)人
向定艾
申请人
申请人地址
618000 四川省德阳市旌阳区天元镇(景福)秋月村四组6幢
IPC主分类号
C09G102
IPC分类号
H01L2102
代理机构
成都汇浪淘知识产权代理事务所(普通合伙) 51381
代理人
陈莉
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
一种SIC晶圆CMP抛光用二氧化硅抛光液及其制备方法 [P]. 
向定艾 .
中国专利 :CN115418169A ,2022-12-02
[2]
用于合金抛光的氧化铝抛光液及其制备方法 [P]. 
曾名辉 .
中国专利 :CN103937413A ,2014-07-23
[3]
氧化铝抛光液及其制备方法 [P]. 
邹兴 ;
蔡文必 ;
林武庆 .
中国专利 :CN114456718A ,2022-05-10
[4]
一种用于铜抛光的氧化铝抛光液及其制备方法 [P]. 
吴兴泽 .
中国专利 :CN110256968A ,2019-09-20
[5]
一种蓝宝石抛光用氧化铝抛光液及其制备方法 [P]. 
周群飞 ;
饶桥兵 ;
杨水莲 .
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[6]
一种蓝宝石抛光用氧化铝抛光液及其制备方法 [P]. 
付存 ;
刘丹丹 ;
王森 ;
汪静 .
中国专利 :CN110591565A ,2019-12-20
[7]
一种碳化硅晶圆抛光用的球形纳米氧化铝抛光液 [P]. 
彭付贵 ;
谢喜明 ;
刘韦 ;
伍雅峰 .
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[8]
一种氧化铝抛光液 [P]. 
王军强 .
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[9]
一种酸性氧化铝抛光液及其制备方法 [P]. 
汤盛峰 ;
周福兵 ;
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韦欢 ;
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:CN118185479A ,2024-06-14
[10]
一种水性可控粒度的氧化铝抛光液的制备方法 [P]. 
贺文兵 .
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