抗蚀剂垫层组成物和使用所述组成物形成图案的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201810067086.8

申请日：

2018-01-24

公开(公告)号：

CN108388079A

公开(公告)日：

2018-08-10

发明(设计)人：

裵信孝权纯亨朴贤白载烈周范俊崔有廷韩权愚

申请人：

申请人地址：

韩国京畿道龙仁市器兴区贡税路150-20号

IPC主分类号：

G03F7004

IPC分类号：

G03F7115

代理机构：

北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205

代理人：

李艳;臧建明

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2018-08-10	公开	公开
2021-09-28	授权	授权
2018-09-04	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/004 申请日:20180124

共 50 条

[1]

抗蚀剂底层组成物及使用所述组成物形成图案的方法 [P].

崔有廷 ;

权纯亨 ;

金旼秀 ;

朴贤 ;

裵信孝 ;

白载烈 .

中国专利 :CN113396364A ,2021-09-14

[2]

抗蚀剂底层组成物及使用所述组成物形成图案的方法 [P].

崔有廷 ;

权纯亨 ;

金旼秀 ;

朴贤 ;

裵信孝 ;

白载烈 .

韩国专利 :CN113396364B ,2025-05-13

[3]

抗蚀剂底层组成物及使用组成物形成图案的方法 [P].

金圣振 ;

文情寅 ;

林昌模 ;

黄丙奎 ;

阵和英 ;

金秀贞 ;

李恩受 ;

李智惠 ;

李在珉 ;

张俊英 ;

曹雅罗 ;

崔有廷 ;

郑盛宇 .

韩国专利 :CN121006119A ,2025-11-25

[4]

抗蚀剂垫层组合物和使用所述组合物形成图案的方法 [P].

白载烈 ;

裵信孝 ;

崔有廷 ;

权纯亨 ;

朴贤 .

中国专利 :CN110879508A ,2020-03-13

[5]

抗蚀剂组成物及图案形成方法 [P].

藤原敬之 ;

及川健一 ;

大桥正树 ;

小林知洋 .

日本专利 :CN111522198B ,2024-01-26

[6]

抗蚀剂组成物及图案形成方法 [P].

大桥正树 ;

片山和弘 ;

山平达也 ;

大友雄太郎 ;

大山皓介 .

日本专利 :CN118112887A ,2024-05-31

[7]

抗蚀剂组成物及图案形成方法 [P].

大桥正树 ;

橘诚一郎 ;

菊地骏 ;

半田龙之介 .

日本专利 :CN118259547A ,2024-06-28

[8]

抗蚀剂组成物及图案形成方法 [P].

菊地骏 ;

草间理志 ;

半田龙之介 ;

大桥正树 .

日本专利 :CN120406047A ,2025-08-01

[9]

抗蚀剂组成物及图案形成方法 [P].

草间理志 ;

大山皓介 ;

菊地骏 ;

大桥正树 .

日本专利 :CN120779667A ,2025-10-14

[10]

抗蚀剂组成物及图案形成方法 [P].

藤原敬之 ;

及川健一 ;

大桥正树 ;

小林知洋 .

中国专利 :CN111522198A ,2020-08-11

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