一种等离子体化学气相沉积生产线机械传动装置

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN200920094718.6

申请日：

2009-11-17

公开(公告)号：

CN201538815U

公开(公告)日：

2010-08-04

发明(设计)人：

杨继泽刘万学刘志才崔庆春孙学义马力斌强艳建杜宏荀

申请人：

申请人地址：

136001 吉林省四平市烟厂路1118号

IPC主分类号：

C23C16513

IPC分类号：

H01L3118

代理机构：

吉林省长春市新时代专利商标代理有限公司 22204

代理人：

石岱

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2010-08-04	授权	授权
2019-11-05	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):C23C 16/513 申请日:20091117 授权公告日:20100804 终止日期:20181117

共 50 条

[1]

一种等离子体化学气相沉积装置 [P].

朱珠 .

中国专利 :CN206635413U ,2017-11-14

[2]

等离子体化学气相沉积装置 [P].

米山典孝 ;

大泽笃史 ;

坂本拓海 ;

中岛直人 .

中国专利 :CN105018899A ,2015-11-04

[3]

等离子体化学气相沉积装置 [P].

I·米莉瑟维克 ;

M·J·N·范·斯特劳伦 ;

G·克拉比希斯 ;

A·H·E·布勒尔斯 .

中国专利 :CN115369380A ,2022-11-22

[4]

一种等离子体化学气相沉积装置 [P].

赵月 .

中国专利 :CN216972679U ,2022-07-15

[5]

等离子体化学气相沉积装置 [P].

富田修弘 ;

庄健太郎 ;

笠谷昌史 .

中国专利 :CN1103382C ,1998-09-09

[6]

等离子体化学气相沉积连续生产装置 [P].

杨继泽 ;

刘万学 ;

张兵 ;

宋涛 ;

朱宏伟 .

中国专利 :CN201804896U ,2011-04-20

[7]

一种磁控溅射生产线机械传动装置 [P].

杨继泽 ;

刘万学 ;

刘志才 ;

崔庆春 ;

孙学义 ;

马力斌 ;

强艳建 ;

杜宏荀 .

中国专利 :CN201530856U ,2010-07-21

[8]

一种等离子体化学气相沉积进气装置 [P].

刘万学 ;

张兵 ;

张宝平 ;

钟福建 .

中国专利 :CN201326014Y ,2009-10-14

[9]

一种等离子体化学气相沉积镀膜装置 [P].

吴婷婷 .

中国专利 :CN216303984U ,2022-04-15

[10]

一种等离子体化学气相沉积镀膜装置 [P].

渠洪波 .

中国专利 :CN205443446U ,2016-08-10

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