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一种使用氮化硅薄膜作为阻挡层的准单晶硅铸锭用坩埚
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201810688398.0
申请日
:
2018-06-28
公开(公告)号
:
CN108728895A
公开(公告)日
:
2018-11-02
发明(设计)人
:
余学功
胡泽晨
杨德仁
申请人
:
申请人地址
:
310013 浙江省杭州市西湖区余杭塘路866号
IPC主分类号
:
C30B1314
IPC分类号
:
C30B2906
代理机构
:
杭州天勤知识产权代理有限公司 33224
代理人
:
胡红娟
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2018-11-02
公开
公开
2020-08-14
发明专利申请公布后的驳回
发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):C30B 13/14 申请公布日:20181102
2018-11-27
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):C30B 13/14 申请日:20180628
共 50 条
[1]
一种使用二氧化硅薄膜作为阻挡层的准单晶硅铸锭用坩埚
[P].
余学功
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0
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余学功
;
胡泽晨
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胡泽晨
;
杨德仁
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杨德仁
.
中国专利
:CN108754614A
,2018-11-06
[2]
一种使用氧化铝薄膜作为阻挡层的准单晶硅铸锭用坩埚
[P].
余学功
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余学功
;
胡泽晨
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胡泽晨
;
杨德仁
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杨德仁
.
中国专利
:CN108796605A
,2018-11-13
[3]
柔性基材上的薄膜氮化硅阻挡层
[P].
A·达尔
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A·达尔
;
A·杰阿西
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A·杰阿西
.
中国专利
:CN104995716A
,2015-10-21
[4]
一种单晶硅铸锭用坩埚和单晶硅铸锭方法
[P].
罗鸿志
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罗鸿志
;
何亮
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何亮
;
周成
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周成
.
中国专利
:CN109972197A
,2019-07-05
[5]
一种氮化硅薄膜的沉积方法
[P].
袁中存
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袁中存
;
党继东
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党继东
.
中国专利
:CN106504979B
,2017-03-15
[6]
一种准单晶硅铸锭设备及铸锭方法
[P].
徐传兴
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徐传兴
.
中国专利
:CN103194794A
,2013-07-10
[7]
一种准单晶硅的铸锭方法
[P].
黄新明
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黄新明
;
钟根香
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钟根香
;
赵波
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赵波
;
徐芳华
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徐芳华
.
中国专利
:CN101864594A
,2010-10-20
[8]
一种含硅纳米粒子的氮化硅薄膜制备方法
[P].
曾祥斌
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曾祥斌
;
姜礼华
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姜礼华
;
张笑
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张笑
.
中国专利
:CN102220568A
,2011-10-19
[9]
一种富硅氮化硅薄膜低温制备方法
[P].
刘林
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刘林
;
陈钰杰
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陈钰杰
;
张彦峰
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张彦峰
;
吴泽儒
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吴泽儒
;
杨纯川
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杨纯川
;
余思远
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余思远
.
中国专利
:CN109449076A
,2019-03-08
[10]
一种制备准单晶硅的铸锭炉及制备准单晶硅的方法
[P].
吕铁铮
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吕铁铮
;
李万辉
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李万辉
.
中国专利
:CN103205807A
,2013-07-17
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