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用于湿法刻蚀工艺的夹具和湿法刻蚀装置
被引:0
申请号
:
CN202122629035.X
申请日
:
2021-10-29
公开(公告)号
:
CN217239430U
公开(公告)日
:
2022-08-19
发明(设计)人
:
孟亚明
顾金辉
徐青青
申请人
:
申请人地址
:
214135 江苏省无锡市太湖国际科技园菱湖大道180号-22
IPC主分类号
:
H01L21687
IPC分类号
:
H01L2167
代理机构
:
上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237
代理人
:
田婷
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2022-08-19
授权
授权
共 50 条
[1]
湿法刻蚀器件和湿法刻蚀机
[P].
刘峻承
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刘峻承
;
涂智超
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涂智超
;
黄于维
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黄于维
.
中国专利
:CN204596768U
,2015-08-26
[2]
湿法刻蚀设备和湿法刻蚀方法
[P].
丁向前
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丁向前
;
刘晓伟
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刘晓伟
;
刘耀
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刘耀
;
郭总杰
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郭总杰
.
中国专利
:CN104018158A
,2014-09-03
[3]
用于湿法刻蚀工艺的雾化喷嘴及湿法刻蚀工艺方法
[P].
李帅臣
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机构:
苏州芯慧联半导体科技有限公司
苏州芯慧联半导体科技有限公司
李帅臣
;
周宏杰
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机构:
苏州芯慧联半导体科技有限公司
苏州芯慧联半导体科技有限公司
周宏杰
;
周军奎
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机构:
苏州芯慧联半导体科技有限公司
苏州芯慧联半导体科技有限公司
周军奎
;
瞿灵杰
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机构:
苏州芯慧联半导体科技有限公司
苏州芯慧联半导体科技有限公司
瞿灵杰
;
朱学新
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机构:
苏州芯慧联半导体科技有限公司
苏州芯慧联半导体科技有限公司
朱学新
.
中国专利
:CN119425973A
,2025-02-14
[4]
用于湿法刻蚀工艺的雾化喷嘴及湿法刻蚀工艺方法
[P].
李帅臣
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机构:
苏州芯慧联半导体科技有限公司
苏州芯慧联半导体科技有限公司
李帅臣
;
周宏杰
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苏州芯慧联半导体科技有限公司
苏州芯慧联半导体科技有限公司
周宏杰
;
周军奎
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机构:
苏州芯慧联半导体科技有限公司
苏州芯慧联半导体科技有限公司
周军奎
;
瞿灵杰
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机构:
苏州芯慧联半导体科技有限公司
苏州芯慧联半导体科技有限公司
瞿灵杰
;
朱学新
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机构:
苏州芯慧联半导体科技有限公司
苏州芯慧联半导体科技有限公司
朱学新
.
中国专利
:CN119425973B
,2025-04-22
[5]
湿法刻蚀装置
[P].
乔鹏
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机构:
杭州富芯半导体有限公司
杭州富芯半导体有限公司
乔鹏
.
中国专利
:CN223471577U
,2025-10-24
[6]
湿法刻蚀槽以及湿法刻蚀设备
[P].
刘海亮
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刘海亮
;
王鹏涛
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王鹏涛
;
严清涛
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严清涛
;
许非凡
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许非凡
.
中国专利
:CN206541807U
,2017-10-03
[7]
湿法刻蚀装置
[P].
兰升友
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兰升友
;
袁山富
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袁山富
.
中国专利
:CN217822683U
,2022-11-15
[8]
湿法刻蚀方法及湿法刻蚀装置
[P].
郝晓波
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郝晓波
.
中国专利
:CN103606518B
,2014-02-26
[9]
用于湿法刻蚀设备的超声检测装置及湿法刻蚀设备
[P].
王玺润
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机构:
芯恩(青岛)集成电路有限公司
芯恩(青岛)集成电路有限公司
王玺润
;
刘佳磊
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机构:
芯恩(青岛)集成电路有限公司
芯恩(青岛)集成电路有限公司
刘佳磊
;
崔爽
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机构:
芯恩(青岛)集成电路有限公司
芯恩(青岛)集成电路有限公司
崔爽
.
中国专利
:CN222813551U
,2025-04-29
[10]
湿法刻蚀系统、湿法刻蚀方法
[P].
姚嫦娲
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姚嫦娲
.
中国专利
:CN103985660B
,2014-08-13
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