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GaN MISHEMT器件及其制作方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202110886070.1
申请日
:
2021-08-03
公开(公告)号
:
CN113594037A
公开(公告)日
:
2021-11-02
发明(设计)人
:
于子呈
张丽
周鑫
徐坤
邓旭光
范亚明
张宝顺
申请人
:
申请人地址
:
215123 江苏省苏州市苏州工业园区独墅湖高教区若水路398号
IPC主分类号
:
H01L21335
IPC分类号
:
H01L29778
代理机构
:
南京利丰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32256
代理人
:
王锋
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2021-11-19
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/335 申请日:20210803
2021-11-02
公开
公开
共 50 条
[1]
GaN MISHEMT器件及其制作方法
[P].
于子呈
论文数:
0
引用数:
0
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机构:
中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
于子呈
;
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机构:
张丽
;
周鑫
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机构:
中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
周鑫
;
论文数:
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机构:
徐坤
;
论文数:
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机构:
邓旭光
;
论文数:
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机构:
范亚明
;
论文数:
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机构:
张宝顺
.
中国专利
:CN113594037B
,2025-09-26
[2]
GaN基HEMT器件及其制作方法
[P].
谭庶欣
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谭庶欣
.
中国专利
:CN111223777A
,2020-06-02
[3]
GaN HEMT器件及其制作方法
[P].
陈一峰
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陈一峰
.
中国专利
:CN105226093B
,2016-01-06
[4]
GaN衬底、半导体器件及其制作方法
[P].
张正海
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张正海
;
张宗民
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张宗民
;
曹伯承
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曹伯承
.
中国专利
:CN102637723A
,2012-08-15
[5]
一种GaN基双异质结HEMT器件及其制作方法
[P].
陈效双
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陈效双
;
姚路驰
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姚路驰
;
王林
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王林
;
胡伟达
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胡伟达
;
陆卫
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陆卫
.
中国专利
:CN105514157A
,2016-04-20
[6]
Ⅲ族氮化物MISHEMT器件
[P].
蔡勇
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蔡勇
;
于国浩
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于国浩
;
董志华
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董志华
;
王越
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王越
;
张宝顺
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张宝顺
.
中国专利
:CN102403349A
,2012-04-04
[7]
N面GaN HEMT器件及其制作方法
[P].
张丽
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张丽
;
于国浩
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于国浩
;
张宝顺
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张宝顺
.
中国专利
:CN112420827A
,2021-02-26
[8]
GaN器件及其制作方法
[P].
孙鹏
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机构:
上海华虹宏力半导体制造有限公司
上海华虹宏力半导体制造有限公司
孙鹏
;
姚一平
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机构:
上海华虹宏力半导体制造有限公司
上海华虹宏力半导体制造有限公司
姚一平
;
邓光敏
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机构:
上海华虹宏力半导体制造有限公司
上海华虹宏力半导体制造有限公司
邓光敏
;
邢军军
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机构:
上海华虹宏力半导体制造有限公司
上海华虹宏力半导体制造有限公司
邢军军
;
杨继业
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机构:
上海华虹宏力半导体制造有限公司
上海华虹宏力半导体制造有限公司
杨继业
.
中国专利
:CN120282476A
,2025-07-08
[9]
GaN基增强型MISHEMT器件的制作方法及器件
[P].
马晓华
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马晓华
;
祝杰杰
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祝杰杰
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马咪
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马咪
;
杨凌
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杨凌
;
侯斌
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侯斌
.
中国专利
:CN108598000B
,2018-09-28
[10]
垂直结构AlGaN/GaN HEMT器件及其制作方法
[P].
孙世闯
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孙世闯
;
张宝顺
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张宝顺
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范亚明
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范亚明
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付凯
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付凯
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蔡勇
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蔡勇
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于国浩
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于国浩
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张志利
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张志利
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宋亮
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宋亮
.
中国专利
:CN104701359A
,2015-06-10
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