一种铬蚀刻液及其制备方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201610806796.9

申请日：

2016-09-07

公开(公告)号：

CN106435589A

公开(公告)日：

2017-02-22

发明(设计)人：

鄢红军熊启龙

申请人：

申请人地址：

518057 广东省深圳市南山区朗山二路北清溢光电大楼

IPC主分类号：

C23F126

IPC分类号：

代理机构：

北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350

代理人：

汤东凤

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-05-10	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101717558317 IPC(主分类):C23F 1/26 专利申请号:2016108067969 申请日:20160907
2019-11-01	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):C23F 1/26 申请公布日:20170222
2017-02-22	公开	公开

共 50 条

[1]

铬蚀刻液、铬蚀刻液的制备方法及铬蚀刻液的回收方法 [P].

童晨 ;

吴海燕 ;

陈桂红 ;

孙元 ;

韩成强 .

中国专利 :CN116162935B ,2024-08-20

[2]

一种铬及铬系合金蚀刻液 [P].

贺兆波 ;

杨俊伟 ;

尹印 ;

叶瑞 ;

万杨阳 ;

杨陈宗 ;

余建平 ;

余迪 ;

马瑞 ;

臧洋 ;

罗海燕 .

中国专利 :CN119162576A ,2024-12-20

[3]

铬金属蚀刻液以及蚀刻铬膜、铬镍膜的方法 [P].

何珂 ;

戈士勇 ;

戈烨铭 .

中国专利 :CN112048719A ,2020-12-08

[4]

一种OLED用铬蚀刻液及其制备方法与应用 [P].

冯卫文 .

中国专利 :CN102505118B ,2012-06-20

[5]

一种集成电路用铬金属蚀刻液及其制备方法 [P].

戈烨铭 ;

何珂 ;

汤晓春 .

中国专利 :CN116121755B ,2024-11-15

[6]

一种铜蚀刻液及其制备方法 [P].

钟昌东 ;

叶瑞 ;

贺兆波 ;

欧阳克银 ;

张庭 ;

张演哲 ;

黄锣锣 ;

黎鹏飞 ;

王荣 ;

彭俊杰 .

中国专利 :CN116240547B ,2024-03-12

[7]

一种蚀刻铜箔的酸性蚀刻液及其制备方法 [P].

张建军 ;

何国雄 ;

陈清华 ;

邹艳红 ;

曹尚书 ;

周京萍 .

中国专利 :CN118880332B ,2025-06-03

[8]

一种蚀刻铜箔的酸性蚀刻液及其制备方法 [P].

张建军 ;

何国雄 ;

陈清华 ;

邹艳红 ;

曹尚书 ;

周京萍 .

中国专利 :CN118880332A ,2024-11-01

[9]

液晶显示屏用铬蚀刻液及其制备方法 [P].

冯卫文 .

中国专利 :CN102277573B ,2011-12-14

[10]

一种高选择性银蚀刻液及其制备方法、蚀刻工艺 [P].

王庆伟 ;

李明凯 ;

张虎 ;

刘庆五 ;

谭镇东 ;

刘文权 ;

秦海涛 ;

秦亚红 ;

周游 .

中国专利 :CN120758883A ,2025-10-10

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