学术探索
学术期刊
学术作者
新闻热点
数据分析
智能评审
铬金属蚀刻液以及蚀刻铬膜、铬镍膜的方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202010876475.2
申请日
:
2020-08-27
公开(公告)号
:
CN112048719A
公开(公告)日
:
2020-12-08
发明(设计)人
:
何珂
戈士勇
戈烨铭
申请人
:
申请人地址
:
214400 江苏省无锡市江阴市科达路33号
IPC主分类号
:
C23F126
IPC分类号
:
代理机构
:
江阴义海知识产权代理事务所(普通合伙) 32247
代理人
:
林友琴
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
引用
下载
收藏
法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2020-12-25
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):C23F 1/26 申请日:20200827
2020-12-08
公开
公开
2023-01-20
发明专利申请公布后的驳回
发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):C23F 1/26 申请公布日:20201208
共 50 条
[1]
铬蚀刻液、铬蚀刻液的制备方法及铬蚀刻液的回收方法
[P].
童晨
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
昆山晶科微电子材料有限公司
昆山晶科微电子材料有限公司
童晨
;
吴海燕
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
昆山晶科微电子材料有限公司
昆山晶科微电子材料有限公司
吴海燕
;
陈桂红
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
昆山晶科微电子材料有限公司
昆山晶科微电子材料有限公司
陈桂红
;
孙元
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
昆山晶科微电子材料有限公司
昆山晶科微电子材料有限公司
孙元
;
韩成强
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
昆山晶科微电子材料有限公司
昆山晶科微电子材料有限公司
韩成强
.
中国专利
:CN116162935B
,2024-08-20
[2]
一种铬及铬系合金蚀刻液
[P].
贺兆波
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
湖北兴福电子材料股份有限公司
湖北兴福电子材料股份有限公司
贺兆波
;
杨俊伟
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
湖北兴福电子材料股份有限公司
湖北兴福电子材料股份有限公司
杨俊伟
;
尹印
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
湖北兴福电子材料股份有限公司
湖北兴福电子材料股份有限公司
尹印
;
叶瑞
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
湖北兴福电子材料股份有限公司
湖北兴福电子材料股份有限公司
叶瑞
;
万杨阳
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
湖北兴福电子材料股份有限公司
湖北兴福电子材料股份有限公司
万杨阳
;
杨陈宗
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
湖北兴福电子材料股份有限公司
湖北兴福电子材料股份有限公司
杨陈宗
;
余建平
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
湖北兴福电子材料股份有限公司
湖北兴福电子材料股份有限公司
余建平
;
余迪
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
湖北兴福电子材料股份有限公司
湖北兴福电子材料股份有限公司
余迪
;
马瑞
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
湖北兴福电子材料股份有限公司
湖北兴福电子材料股份有限公司
马瑞
;
臧洋
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
湖北兴福电子材料股份有限公司
湖北兴福电子材料股份有限公司
臧洋
;
罗海燕
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
湖北兴福电子材料股份有限公司
湖北兴福电子材料股份有限公司
罗海燕
.
中国专利
:CN119162576A
,2024-12-20
[3]
铬蚀刻液生产设备
[P].
童晨
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
童晨
.
中国专利
:CN211036110U
,2020-07-17
[4]
一种铬蚀刻液及其制备方法
[P].
鄢红军
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
鄢红军
;
熊启龙
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
熊启龙
.
中国专利
:CN106435589A
,2017-02-22
[5]
一种铬金属蚀刻液的制备装置
[P].
刘一平
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
江阴润玛电子材料股份有限公司
江阴润玛电子材料股份有限公司
刘一平
;
王亚娟
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
江阴润玛电子材料股份有限公司
江阴润玛电子材料股份有限公司
王亚娟
;
石金武
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
江阴润玛电子材料股份有限公司
江阴润玛电子材料股份有限公司
石金武
;
何珂
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
江阴润玛电子材料股份有限公司
江阴润玛电子材料股份有限公司
何珂
.
中国专利
:CN223082377U
,2025-07-11
[6]
一种蚀刻铬铜金属的方法
[P].
陈敬伦
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
南通群安电子材料有限公司
南通群安电子材料有限公司
陈敬伦
;
陈芬
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
南通群安电子材料有限公司
南通群安电子材料有限公司
陈芬
;
张晴晴
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
南通群安电子材料有限公司
南通群安电子材料有限公司
张晴晴
.
中国专利
:CN117535667A
,2024-02-09
[7]
液晶显示屏用铬蚀刻液及其制备方法
[P].
冯卫文
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
冯卫文
.
中国专利
:CN102277573B
,2011-12-14
[8]
一种OLED用铬蚀刻液及其制备方法与应用
[P].
冯卫文
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
冯卫文
.
中国专利
:CN102505118B
,2012-06-20
[9]
一种集成电路用铬金属蚀刻液及其制备方法
[P].
戈烨铭
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
江苏中德电子材料科技有限公司
江苏中德电子材料科技有限公司
戈烨铭
;
何珂
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
江苏中德电子材料科技有限公司
江苏中德电子材料科技有限公司
何珂
;
汤晓春
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
江苏中德电子材料科技有限公司
江苏中德电子材料科技有限公司
汤晓春
.
中国专利
:CN116121755B
,2024-11-15
[10]
多层膜用蚀刻液和蚀刻浓缩液以及蚀刻方法
[P].
白滨祐二
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
白滨祐二
;
着能真
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
着能真
.
中国专利
:CN111094627B
,2020-05-01
←
1
2
3
4
5
→