铬金属蚀刻液以及蚀刻铬膜、铬镍膜的方法

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专利类型
发明
申请号
CN202010876475.2
申请日
2020-08-27
公开(公告)号
CN112048719A
公开(公告)日
2020-12-08
发明(设计)人
何珂 戈士勇 戈烨铭
申请人
申请人地址
214400 江苏省无锡市江阴市科达路33号
IPC主分类号
C23F126
IPC分类号
代理机构
江阴义海知识产权代理事务所(普通合伙) 32247
代理人
林友琴
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
铬蚀刻液、铬蚀刻液的制备方法及铬蚀刻液的回收方法 [P]. 
童晨 ;
吴海燕 ;
陈桂红 ;
孙元 ;
韩成强 .
中国专利 :CN116162935B ,2024-08-20
[2]
一种铬及铬系合金蚀刻液 [P]. 
贺兆波 ;
杨俊伟 ;
尹印 ;
叶瑞 ;
万杨阳 ;
杨陈宗 ;
余建平 ;
余迪 ;
马瑞 ;
臧洋 ;
罗海燕 .
中国专利 :CN119162576A ,2024-12-20
[3]
铬蚀刻液生产设备 [P]. 
童晨 .
中国专利 :CN211036110U ,2020-07-17
[4]
一种铬蚀刻液及其制备方法 [P]. 
鄢红军 ;
熊启龙 .
中国专利 :CN106435589A ,2017-02-22
[5]
一种铬金属蚀刻液的制备装置 [P]. 
刘一平 ;
王亚娟 ;
石金武 ;
何珂 .
中国专利 :CN223082377U ,2025-07-11
[6]
一种蚀刻铬铜金属的方法 [P]. 
陈敬伦 ;
陈芬 ;
张晴晴 .
中国专利 :CN117535667A ,2024-02-09
[7]
液晶显示屏用铬蚀刻液及其制备方法 [P]. 
冯卫文 .
中国专利 :CN102277573B ,2011-12-14
[8]
一种OLED用铬蚀刻液及其制备方法与应用 [P]. 
冯卫文 .
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[9]
一种集成电路用铬金属蚀刻液及其制备方法 [P]. 
戈烨铭 ;
何珂 ;
汤晓春 .
中国专利 :CN116121755B ,2024-11-15
[10]
多层膜用蚀刻液和蚀刻浓缩液以及蚀刻方法 [P]. 
白滨祐二 ;
着能真 .
中国专利 :CN111094627B ,2020-05-01