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基板脱离检测装置和方法、以及使用该装置的基板处理装置和使用该方法的基板处理方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201410225161.0
申请日
:
2014-05-26
公开(公告)号
:
CN104183522B
公开(公告)日
:
2014-12-03
发明(设计)人
:
菊池仁
小林健
吉田光广
芳贺雄太
高畠裕二
伊藤尚秀
菅原克昭
千叶昌明
佐藤弘幸
申请人
:
申请人地址
:
日本东京都
IPC主分类号
:
H01L2167
IPC分类号
:
H01L2166
代理机构
:
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277
代理人
:
刘新宇;张会华
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2014-12-03
公开
公开
2015-12-30
实质审查的生效
实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101640233277 IPC(主分类):H01L 21/67 专利申请号:2014102251610 申请日:20140526
2018-11-06
授权
授权
共 50 条
[1]
能旋转状态检测装置和方法、以及使用该装置的基板处理装置和使用该方法的基板处理方法
[P].
高桥喜一
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0
高桥喜一
;
小林健
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小林健
;
高畠裕二
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高畠裕二
;
伊藤尚秀
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伊藤尚秀
;
菅原克昭
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菅原克昭
.
中国专利
:CN104183518A
,2014-12-03
[2]
基板处理装置以及使用基板处理装置的基板处理方法
[P].
日野出大辉
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日野出大辉
;
太田乔
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太田乔
;
西东和英
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西东和英
;
山田邦夫
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山田邦夫
.
中国专利
:CN104934350A
,2015-09-23
[3]
基板处理装置及使用该装置的基板处理方法
[P].
曺生贤
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曺生贤
;
安成一
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安成一
.
中国专利
:CN109964330A
,2019-07-02
[4]
基板检测方法和使用该方法的基板检测装置
[P].
村上清
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村上清
.
中国专利
:CN1273825C
,2004-12-01
[5]
基板处理装置和基板处理装置的基板检测方法
[P].
久留巣健人
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久留巣健人
;
森公平
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森公平
.
中国专利
:CN105047585B
,2015-11-11
[6]
基板清洗刷、和使用该刷的基板处理装置及基板处理方法
[P].
岩见优树
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岩见优树
;
佐藤雅伸
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佐藤雅伸
.
中国专利
:CN100534644C
,2007-01-10
[7]
基板处理装置和基板处理方法
[P].
守田聪
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守田聪
;
饱本正巳
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饱本正巳
;
森川胜洋
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森川胜洋
;
水永耕市
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水永耕市
.
中国专利
:CN110957241A
,2020-04-03
[8]
基板处理装置和基板处理方法
[P].
福永信贵
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
福永信贵
;
枪光正和
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
枪光正和
;
藤井克久
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
藤井克久
;
龙秀二郎
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机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
龙秀二郎
.
日本专利
:CN118081510A
,2024-05-28
[9]
基板处理方法和基板处理装置
[P].
加藤寿
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加藤寿
;
佐藤润
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佐藤润
;
村田昌弘
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村田昌弘
;
大下健太郎
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大下健太郎
;
菅野智子
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菅野智子
;
三浦繁博
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三浦繁博
.
中国专利
:CN104831255A
,2015-08-12
[10]
基板处理装置和基板处理方法
[P].
加藤寿
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加藤寿
;
菊地宏之
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菊地宏之
;
米泽雅人
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0
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米泽雅人
;
佐藤润
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佐藤润
;
三浦繁博
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0
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三浦繁博
.
中国专利
:CN104637769B
,2015-05-20
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