一种中性的半水基液晶玻璃清洗剂及其清洗方法

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专利类型
发明
申请号
CN202011527739.X
申请日
2020-12-22
公开(公告)号
CN112500934A
公开(公告)日
2021-03-16
发明(设计)人
陈成勋 种光耀 黄继承
申请人
申请人地址
215000 江苏省苏州市工业园区金鸡湖大道99号纳米城NW01-404室
IPC主分类号
C11D114
IPC分类号
C11D122 C11D172 C11D1831 C11D318 C11D320 C11D343 C11D360 B08B308 B08B312
代理机构
南京苏科专利代理有限责任公司 32102
代理人
蒋慧妮
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
一种水基光学玻璃清洗剂及其制备方法 [P]. 
何兵 ;
姜永 ;
郭永辉 ;
郑泽民 .
中国专利 :CN118222358A ,2024-06-21
[2]
半水基型半导体元器件清洗剂 [P]. 
陈成勋 ;
种光耀 ;
黄继承 .
中国专利 :CN112500938A ,2021-03-16
[3]
中性水基清洗剂及其制备方法和半导体封装清洗方法 [P]. 
郭艳萍 ;
黄霖 .
中国专利 :CN106701343B ,2017-05-24
[4]
一种水基型液晶清洗剂及其制备方法和应用 [P]. 
包亚群 ;
罗壮东 .
中国专利 :CN113122398B ,2021-07-16
[5]
用于清洗镜头及镜头组件的中性水基清洗剂 [P]. 
黄霖 ;
郭艳萍 .
中国专利 :CN108085173A ,2018-05-29
[6]
半导体硅片中性水基清洗剂及其制备方法 [P]. 
朱汪龙 ;
朱玲 .
中国专利 :CN108300592A ,2018-07-20
[7]
中性清洗剂及其制备方法 [P]. 
熊勇 ;
张小蓉 ;
韩世忠 .
中国专利 :CN102399642A ,2012-04-04
[8]
一种新型的环保中性水基清洗剂及其制备方法 [P]. 
王飞飞 ;
方建 .
中国专利 :CN117904643A ,2024-04-19
[9]
一种软钎焊用水基清洗剂及清洗方法 [P]. 
甘贵生 ;
曹华东 ;
刘歆 ;
蒋刘杰 ;
夏大权 ;
田谧哲 ;
翟翔 ;
刘聪 ;
贺继康 .
中国专利 :CN109554716A ,2019-04-02
[10]
一种低泡高效水基清洗剂及清洗方法 [P]. 
甘贵生 ;
曹华东 ;
刘歆 ;
夏大权 ;
蒋刘杰 ;
田谧哲 ;
甘树德 ;
蒋妮 ;
吴应雪 .
中国专利 :CN109370809A ,2019-02-22