半水基型半导体元器件清洗剂

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202011527728.1

申请日：

2020-12-22

公开(公告)号：

CN112500938A

公开(公告)日：

2021-03-16

发明(设计)人：

陈成勋种光耀黄继承

申请人：

申请人地址：

215000 江苏省苏州市工业园区金鸡湖大道99号纳米城NW01-404室

IPC主分类号：

C11D172

IPC分类号：

C11D1825 C11D320 C11D326 C11D337 C11D360

代理机构：

南京苏科专利代理有限责任公司 32102

代理人：

蒋慧妮

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-04-02	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C11D 1/72 申请日:20201222
2021-03-16	公开	公开

共 50 条

[1]

低VOC的半导体芯片清洗剂及其制备方法 [P].

陈成勋 ;

种光耀 ;

黄继承 .

中国专利 :CN112592769A ,2021-04-02

[2]

一种水基型半导体清洗剂及其制备方法 [P].

张呈波 ;

秦旺洋 ;

范从国 .

中国专利 :CN111139140A ,2020-05-12

[3]

半导体硅片中性水基清洗剂及其制备方法 [P].

朱汪龙 ;

朱玲 .

中国专利 :CN108300592A ,2018-07-20

[4]

中性水基清洗剂及其制备方法和半导体封装清洗方法 [P].

郭艳萍 ;

黄霖 .

中国专利 :CN106701343B ,2017-05-24

[5]

高效水基清洗剂 [P].

卢建兵 .

中国专利 :CN102936538A ,2013-02-20

[6]

水基型轴承油垢清洗剂 [P].

李家荣 ;

刘锡林 ;

吴亮 .

中国专利 :CN101984029A ,2011-03-09

[7]

低VOC半水基重油污清洗剂 [P].

陈成勋 ;

种光耀 ;

黄继承 .

中国专利 :CN112410132A ,2021-02-26

[8]

一种中性的半水基液晶玻璃清洗剂及其清洗方法 [P].

陈成勋 ;

种光耀 ;

黄继承 .

中国专利 :CN112500934A ,2021-03-16

[9]

一种软钎焊用水基清洗剂及清洗方法 [P].

甘贵生 ;

曹华东 ;

刘歆 ;

蒋刘杰 ;

夏大权 ;

田谧哲 ;

翟翔 ;

刘聪 ;

贺继康 .

中国专利 :CN109554716A ,2019-04-02

[10]

一种水基型液晶清洗剂及其制备方法和应用 [P].

包亚群 ;

罗壮东 .

中国专利 :CN113122398B ,2021-07-16

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