低VOC的半导体芯片清洗剂及其制备方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202011531951.3

申请日：

2020-12-22

公开(公告)号：

CN112592769A

公开(公告)日：

2021-04-02

发明(设计)人：

陈成勋种光耀黄继承

申请人：

申请人地址：

215000 江苏省苏州市工业园区金鸡湖大道99号纳米城NW01-404室

IPC主分类号：

C11D172

IPC分类号：

C11D343 C11D344 C11D320 C11D337 C11D328 C11D360

代理机构：

南京苏科专利代理有限责任公司 32102

代理人：

蒋慧妮

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-04-02	公开	公开
2021-04-23	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C11D 1/72 申请日:20201222

共 50 条

[1]

一种半导体芯片清洗剂及其制备方法 [P].

何桥 ;

黄开贵 ;

姚贤斌 .

中国专利 :CN116496851B ,2024-11-15

[2]

半水基型半导体元器件清洗剂 [P].

陈成勋 ;

种光耀 ;

黄继承 .

中国专利 :CN112500938A ,2021-03-16

[3]

半导体硅片中性水基清洗剂及其制备方法 [P].

朱汪龙 ;

朱玲 .

中国专利 :CN108300592A ,2018-07-20

[4]

中性水基清洗剂及其制备方法和半导体封装清洗方法 [P].

郭艳萍 ;

黄霖 .

中国专利 :CN106701343B ,2017-05-24

[5]

一种半导体级石英环清洗剂及其制备方法 [P].

胡柏星 ;

王晓亮 ;

何其慧 ;

陈凡 ;

谢梦凡 .

中国专利 :CN119823835A ,2025-04-15

[6]

油污清洗剂及其制备方法 [P].

王希贵 .

中国专利 :CN104031755A ,2014-09-10

[7]

一种半导体单晶硅清洗剂及其清洗方法 [P].

王全文 ;

李鹭 ;

杨蛟 .

中国专利 :CN108753478A ,2018-11-06

[8]

一种半导体清洗剂及其制备方法 [P].

骆祖文 .

中国专利 :CN112592771A ,2021-04-02

[9]

半导体工业清洗剂及其应用 [P].

唐博合金 ;

张颖 ;

张伟 ;

吴建祥 ;

周群群 ;

高艺龙 ;

王颖 ;

腾大全 ;

潘建民 ;

赵家昌 .

中国专利 :CN103881837A ,2014-06-25

[10]

一种清洗剂以及清洗剂的制备方法 [P].

叶世春 ;

刘影 ;

严斌 ;

熊靓 .

中国专利 :CN112708513A ,2021-04-27

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