半导体工业清洗剂及其应用

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201210556512.7

申请日：

2012-12-19

公开(公告)号：

CN103881837A

公开(公告)日：

2014-06-25

发明(设计)人：

唐博合金张颖张伟吴建祥周群群高艺龙王颖腾大全潘建民赵家昌

申请人：

申请人地址：

201600 上海市松江区龙腾路333号上海工程技术大学化工学院3号实训楼3410房间

IPC主分类号：

C11D166

IPC分类号：

C11D172 C11D360 C11D348 C11D337 H01L2102

代理机构：

上海金盛协力知识产权代理有限公司 31242

代理人：

罗大忱

法律状态：

发明专利申请公布后的视为撤回

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-02-08	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101746409928 IPC(主分类):C11D 1/66 专利申请号:2012105565127 申请公布日:20140625
2014-07-16	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101583890766 IPC(主分类):C11D 1/66 专利申请号:2012105565127 申请日:20121219
2014-06-25	公开	公开

共 50 条

[1]

半导体工业用清洗剂 [P].

仲跻和 .

中国专利 :CN101463295A ,2009-06-24

[2]

半导体工业用清洗剂 [P].

宗福建 ;

杜信荣 ;

马洪磊 .

中国专利 :CN1124285A ,1996-06-12

[3]

半导体硅片中性水基清洗剂及其制备方法 [P].

朱汪龙 ;

朱玲 .

中国专利 :CN108300592A ,2018-07-20

[4]

低VOC的半导体芯片清洗剂及其制备方法 [P].

陈成勋 ;

种光耀 ;

黄继承 .

中国专利 :CN112592769A ,2021-04-02

[5]

一种半导体低VOCs清洗剂 [P].

吴爱平 .

中国专利 :CN114149869A ,2022-03-08

[6]

半水基型半导体元器件清洗剂 [P].

陈成勋 ;

种光耀 ;

黄继承 .

中国专利 :CN112500938A ,2021-03-16

[7]

中性水基清洗剂及其制备方法和半导体封装清洗方法 [P].

郭艳萍 ;

黄霖 .

中国专利 :CN106701343B ,2017-05-24

[8]

一种清洗剂及应用清洗剂清洗半导体硅片的方法 [P].

朱汪龙 ;

朱玲 .

中国专利 :CN110804502A ,2020-02-18

[9]

一种半导体级石英环清洗剂及其制备方法 [P].

胡柏星 ;

王晓亮 ;

何其慧 ;

陈凡 ;

谢梦凡 .

中国专利 :CN119823835A ,2025-04-15

[10]

一种半导体单晶硅清洗剂及其清洗方法 [P].

王全文 ;

李鹭 ;

杨蛟 .

中国专利 :CN108753478A ,2018-11-06

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