一种高晶化率多晶硅薄膜的制备方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201510474064.X
申请日
2015-08-05
公开(公告)号
CN104975260B
公开(公告)日
2015-10-14
发明(设计)人
王宙 骆旭梁 付传起 董桂馥 雍帆
申请人
申请人地址
116622 辽宁省大连市经济技术开发区学府大街10号
IPC主分类号
C23C1414
IPC分类号
C23C1424 C23C1458
代理机构
大连智高专利事务所(特殊普通合伙) 21235
代理人
胡景波
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
一种制备高导电率多晶硅薄膜的方法 [P]. 
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吴强 ;
辛雅焜 ;
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弭辙 ;
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[2]
一种多晶硅薄膜的制备方法及多晶硅薄膜 [P]. 
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[3]
多晶硅薄膜及用非晶硅低温诱导制备多晶硅薄膜的方法 [P]. 
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一种多晶硅薄膜的制备方法 [P]. 
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[5]
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[6]
低掺杂率多晶硅薄膜的制备方法 [P]. 
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[7]
多晶硅薄膜的制备方法 [P]. 
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[8]
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[9]
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[10]
多晶硅薄膜的制备方法 [P]. 
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