优化光刻设备中工件台热效应的温度补偿装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202010824225.4

申请日：

2020-08-17

公开(公告)号：

CN111856891A

公开(公告)日：

2020-10-30

发明(设计)人：

顾峥伍强李艳丽

申请人：

申请人地址：

201210 上海市浦东新区张江高斯路497号

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275

代理人：

张磊;吴世华

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-10-30	公开	公开
2020-12-22	专利申请权、专利权的转移	专利申请权的转移 IPC(主分类):G03F 7/20 登记生效日:20201210 变更事项:申请人变更前权利人:上海集成电路研发中心有限公司变更后权利人:上海集成电路研发中心有限公司变更事项:地址变更前权利人:201210 上海市浦东新区张江高斯路497号变更后权利人:201210 上海市浦东新区张江高斯路497号变更事项:申请人变更后权利人:上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司
2020-11-17	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20200817

共 50 条

[1]

掩模板热效应补偿的补偿装置 [P].

不公告发明人 .

中国专利 :CN208689362U ,2019-04-02

[2]

热效应自补偿装置与其补偿方法 [P].

黄荣山 ;

辜煜夫 ;

颜毅广 ;

关恕 ;

吴光钟 ;

林世明 ;

林品延 .

中国专利 :CN102135515A ,2011-07-27

[3]

用于光刻设备的工件台 [P].

张锋 ;

齐芊枫 .

中国专利 :CN101354537B ,2009-01-28

[4]

光罩热效应的补偿方法 [P].

朱至渊 ;

李玉华 ;

黄发彬 ;

林辉 ;

吴长明 ;

姚振海 ;

金乐群 .

中国专利 :CN112612183A ,2021-04-06

[5]

用于光刻设备的工件台位置误差补偿方法 [P].

林彬 ;

李煜芝 ;

毛方林 .

中国专利 :CN103454862A ,2013-12-18

[6]

掩模板热效应补偿的方法 [P].

不公告发明人 .

中国专利 :CN110865514A ,2020-03-06

[7]

温度补偿方法、温度补偿装置、制热设备及存储介质 [P].

张三杰 .

中国专利 :CN119138757A ,2024-12-17

[8]

CMUT设备中的温度补偿 [P].

P·迪克森 ;

A·莱韦斯泰因 .

中国专利 :CN103459051A ,2013-12-18

[9]

一种工件台系统及光刻设备 [P].

李新振 ;

廖飞红 .

中国专利 :CN110658688A ,2020-01-07

[10]

集成电路光刻设备的磁悬浮精密工件台 [P].

李黎川 .

中国专利 :CN1219240C ,2004-11-10

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