一种化学气相沉积电子照射制备石墨烯薄膜的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202110928877.7

申请日：

2021-08-13

公开(公告)号：

CN113637952A

公开(公告)日：

2021-11-12

发明(设计)人：

王超陈晓寒刁东风

申请人：

申请人地址：

518060 广东省深圳市南山区南海大道3688号

IPC主分类号：

C23C1626

IPC分类号：

C23C16511 C23C1648

代理机构：

深圳市君胜知识产权代理事务所(普通合伙) 44268

代理人：

徐凯凯

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-11-30	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 16/26 申请日:20210813
2021-11-12	公开	公开

共 50 条

[1]

一种化学气相沉积法制备石墨烯薄膜的方法 [P].

崔成杰 ;

贾宇冲 ;

马俊杰 .

中国专利 :CN105734525A ,2016-07-06

[2]

一种低温化学气相沉积制备石墨烯薄膜的方法 [P].

胡宝山 ;

蔡霞 ;

金燕 .

中国专利 :CN112575310A ,2021-03-30

[3]

制备石墨烯薄膜的化学气相沉积设备及方法 [P].

李雪松 .

中国专利 :CN105399082A ,2016-03-16

[4]

一种制备双层石墨烯的化学气相沉积方法 [P].

林时胜 ;

董策舟 .

中国专利 :CN103072978A ,2013-05-01

[5]

一种化学气相沉积制备石墨烯的方法 [P].

孙靖宇 ;

刘非凡 ;

刘忠范 ;

李颖涵 ;

贾丽 .

中国专利 :CN120330675A ,2025-07-18

[6]

一种制备石墨烯薄膜的化学气相沉积设备及方法 [P].

董国材 ;

张祥 ;

张金龙 .

中国专利 :CN109487229A ,2019-03-19

[7]

一种用于制备石墨烯薄膜的化学气相沉积系统 [P].

王振中 .

中国专利 :CN204224702U ,2015-03-25

[8]

一种用于制备石墨烯薄膜的化学气相沉积装置 [P].

刘长江 ;

连榕 .

中国专利 :CN202913056U ,2013-05-01

[9]

一种常压低温化学气相沉积制备石墨烯薄膜的方法 [P].

胡宝山 ;

赵文斌 .

中国专利 :CN106587030B ,2017-04-26

[10]

一种化学气相沉积法制备石墨烯 [P].

金闯 ;

杨晓明 .

中国专利 :CN104085887A ,2014-10-08

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