超高纯铝溅射靶材自动定位设备

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201910253197.2

申请日：

2019-03-29

公开(公告)号：

CN111748778A

公开(公告)日：

2020-10-09

发明(设计)人：

姚力军潘杰王学泽魏小林

申请人：

申请人地址：

315400 浙江省宁波市余姚市名邦科技工业园区安山路198号

IPC主分类号：

C23C1434

IPC分类号：

B25B1100

代理机构：

北京集佳知识产权代理有限公司 11227

代理人：

吴敏

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-10-30	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C23C 14/34 申请日:20190329
2020-10-09	公开	公开

共 50 条

[1]

一种超高纯铝溅射靶材及其轧制方法 [P].

吴本明 ;

文宏福 .

中国专利 :CN110205590A ,2019-09-06

[2]

超高纯铝超细晶粒溅射靶材的制备方法 [P].

张佼 ;

程健 ;

东青 ;

赵国刚 ;

李明泽 ;

疏达 ;

戴永兵 ;

孙宝德 ;

王俊 .

中国专利 :CN101638760A ,2010-02-03

[3]

一种制备超高纯铝及超高纯铝合金溅射靶材的方法 [P].

宋小利 ;

张向东 ;

张文勇 ;

杨太礼 ;

王毅 ;

付勇 .

中国专利 :CN103834924A ,2014-06-04

[4]

一种超高纯铝硅钛溅射靶材合金的制备方法 [P].

姚力军 ;

潘杰 ;

王学泽 ;

仝连海 .

中国专利 :CN114427081A ,2022-05-03

[5]

溅射靶材 [P].

长谷川浩一 ;

石井信雄 ;

朝木知美 .

中国专利 :CN1217028C ,2003-11-26

[6]

溅射靶材 [P].

长谷川浩之 ;

松原庆明 .

中国专利 :CN107735504B ,2018-02-23

[7]

溅射靶材 [P].

福岛英子 ;

上坂修治郎 ;

玉田悠 .

中国专利 :CN105385995A ,2016-03-09

[8]

溅射靶材 [P].

长谷川浩一 ;

石井信雄 .

中国专利 :CN1867693B ,2006-11-22

[9]

溅射靶材 [P].

玉田悠 ;

齐藤和也 ;

上坂修治郎 ;

熊谷友正 .

中国专利 :CN106868459B ,2017-06-20

[10]

溅射靶材 [P].

E.Y.伊瓦诺夫 ;

A.莱波维克 ;

J.里泽 .

中国专利 :CN102844460A ,2012-12-26

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