共 50 条
[1]
[2]
[3]
[4]
[5]
[6]
[7]
[8]
[9]
[10]
半导体清洗设备及清洗介质温度控制方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202011089379.X
申请日：
2020-10-13
公开(公告)号：
CN112259472A
公开(公告)日：
2021-01-22
发明(设计)人：
巫双
张明
赵曾男
申请人：
申请人地址：
100176 北京市北京经济技术开发区文昌大道8号
IPC主分类号：
H01L2167
IPC分类号：
代理机构：
北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112
代理人：
彭瑞欣;王婷
法律状态：
实质审查的生效
国省代码：
引用
下载
收藏
法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2021-02-09 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 21/67 申请日:20201013 |
| 2021-01-22 | 公开 | 公开 |