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利用等离子体点源的阵列处理工件的等离子体反应器
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201610857555.7
申请日
:
2016-09-27
公开(公告)号
:
CN106558468A
公开(公告)日
:
2017-04-05
发明(设计)人
:
K·拉马斯瓦米
L·王
S·莱恩
Y·杨
S·D·耐马尼
P·戈帕尔拉迦
申请人
:
申请人地址
:
美国加利福尼亚州
IPC主分类号
:
H01J3732
IPC分类号
:
代理机构
:
上海专利商标事务所有限公司 31100
代理人
:
侯颖媖
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2020-07-17
授权
授权
2017-04-05
公开
公开
2018-04-24
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H01J 37/32 申请日:20160927
共 50 条
[1]
利用等离子体点源的阵列处理工件的等离子体反应器
[P].
K·拉马斯瓦米
论文数:
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K·拉马斯瓦米
;
L·王
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L·王
;
S·莱恩
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S·莱恩
;
Y·杨
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Y·杨
;
S·D·耐马尼
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S·D·耐马尼
;
P·戈帕尔拉迦
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P·戈帕尔拉迦
.
中国专利
:CN206546813U
,2017-10-10
[2]
等离子体反应器、等离子体处理工件的方法
[P].
梁奇伟
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0
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机构:
应用材料公司
应用材料公司
梁奇伟
;
斯里尼瓦斯·D·内曼尼
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机构:
应用材料公司
应用材料公司
斯里尼瓦斯·D·内曼尼
.
美国专利
:CN115954255B
,2025-05-16
[3]
等离子体反应器、等离子体处理工件的方法
[P].
梁奇伟
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梁奇伟
;
斯里尼瓦斯·D·内曼尼
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斯里尼瓦斯·D·内曼尼
.
中国专利
:CN110710056B
,2020-01-17
[4]
用于等离子体反应器的增强等离子体源
[P].
V·N·托多罗
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V·N·托多罗
;
G·勒雷
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G·勒雷
;
M·D·威尔沃斯
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M·D·威尔沃斯
;
L-S·蒋
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L-S·蒋
.
中国专利
:CN105340059A
,2016-02-17
[5]
等离子体处理装置以及涡流等离子体反应器
[P].
张荣兴
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张荣兴
.
中国专利
:CN103028316A
,2013-04-10
[6]
等离子体反应器及利用该反应器的等离子体点火方法
[P].
崔相敦
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崔相敦
.
中国专利
:CN104025720A
,2014-09-03
[7]
等离子体反应器
[P].
A·萨拉巴斯
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A·萨拉巴斯
;
A·A·H·塔哈
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A·A·H·塔哈
;
D·乔达里
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D·乔达里
;
M·克林德沃特
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M·克林德沃特
;
C·埃勒特
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C·埃勒特
.
中国专利
:CN102237247A
,2011-11-09
[8]
等离子体反应器
[P].
G·P·奈特
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G·P·奈特
;
A·钱伯斯
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A·钱伯斯
.
中国专利
:CN101755322B
,2010-06-23
[9]
等离子体反应器
[P].
张婧
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张婧
;
厉建祥
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厉建祥
;
张铁
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张铁
;
任君朋
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任君朋
;
孙峰
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孙峰
;
朱云峰
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朱云峰
;
徐伟
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徐伟
.
中国专利
:CN208577431U
,2019-03-05
[10]
等离子体反应器
[P].
李大勋
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李大勋
;
金冠泰
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金冠泰
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宋永焄
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宋永焄
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车旻锡
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车旻锡
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李载玉
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李载玉
;
金释俊
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金释俊
.
中国专利
:CN101972621A
,2011-02-16
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