利用等离子体点源的阵列处理工件的等离子体反应器

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201610857555.7

申请日：

2016-09-27

公开(公告)号：

CN106558468A

公开(公告)日：

2017-04-05

发明(设计)人：

K·拉马斯瓦米 L·王 S·莱恩 Y·杨 S·D·耐马尼 P·戈帕尔拉迦

申请人：

申请人地址：

美国加利福尼亚州

IPC主分类号：

H01J3732

IPC分类号：

代理机构：

上海专利商标事务所有限公司 31100

代理人：

侯颖媖

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-07-17	授权	授权
2017-04-05	公开	公开
2018-04-24	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01J 37/32 申请日:20160927

共 50 条

[41]

用于RF等离子体反应器的等离子体鞘控制 [P].

艾丽亚·斯劳伯道夫 ;

迪麦西·津巴 ;

肯尼斯·米勒 ;

詹姆斯·普拉格 .

中国专利 :CN112805920A ,2021-05-14

[42]

用于处理工件的等离子体反应装置 [P].

李兴存 .

中国专利 :CN108987228B ,2024-05-17

[43]

等离子体反应器容器和组件、和执行等离子体处理的方法 [P].

O.R.肖杰伊 ;

J.施米特 ;

F.珍内雷特 .

中国专利 :CN105593968A ,2016-05-18

[44]

用于等离子体室中的均匀等离子体分布的等离子体源 [P].

金南宪 .

中国专利 :CN101040366A ,2007-09-19

[45]

磁等离子体控制电容耦合等离子体反应器 [P].

丹尼尔·J·后曼 ;

马修·L·米勒 ;

杨姜久 ;

蔡希晔 ;

麦可·巴尼斯 ;

石川哲也 ;

叶洋 .

中国专利 :CN1669108A ,2005-09-14

[46]

微波等离子体源和等离子体处理装置 [P].

小松智仁 ;

池田太郎 ;

藤野丰 .

中国专利 :CN104717820B ,2015-06-17

[47]

微波等离子体源和等离子体处理装置 [P].

河西繁 .

中国专利 :CN101385129B ,2009-03-11

[48]

微波等离子体源和等离子体处理装置 [P].

池田太郎 ;

长田勇辉 .

中国专利 :CN102458032A ,2012-05-16

[49]

等离子体源线圈和使用该等离子体源线圈的等离子体室 [P].

金南宪 ;

李堵汉 ;

吴荣根 .

中国专利 :CN1938824A ,2007-03-28

[50]

具有均匀轴向分布的等离子体的电容耦合等离子体反应器 [P].

杨江贵 ;

丹尼尔·J·霍夫曼 ;

詹姆斯·D·卡尔杜奇 ;

道格拉斯·A·小布赫贝格尔 ;

罗伯特·B·哈根 ;

马修·L·米勒 ;

江康丽 ;

杰拉尔多·A·德尔加迪奥 .

中国专利 :CN100532637C ,2006-08-23

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