利用等离子体点源的阵列处理工件的等离子体反应器

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201610857555.7

申请日：

2016-09-27

公开(公告)号：

CN106558468A

公开(公告)日：

2017-04-05

发明(设计)人：

K·拉马斯瓦米 L·王 S·莱恩 Y·杨 S·D·耐马尼 P·戈帕尔拉迦

申请人：

申请人地址：

美国加利福尼亚州

IPC主分类号：

H01J3732

IPC分类号：

代理机构：

上海专利商标事务所有限公司 31100

代理人：

侯颖媖

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-07-17	授权	授权
2017-04-05	公开	公开
2018-04-24	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):H01J 37/32 申请日:20160927

共 50 条

[21]

等离子体反应器 [P].

K·拉马斯瓦米 ;

L·王 ;

S·莱恩 ;

Y·杨 ;

S·D·耐马尼 ;

P·戈帕尔拉迦 .

中国专利 :CN207503911U ,2018-06-15

[22]

等离子体放电结构及等离子体反应器 [P].

竹涛 ;

张星 ;

边文璟 ;

张久松 .

中国专利 :CN108322986A ,2018-07-24

[23]

电晕等离子体设备和等离子体反应器 [P].

皮埃尔·德利纳盖 ;

斯蒂芬·留内尔 .

中国专利 :CN111279800A ,2020-06-12

[24]

等离子体放电板及等离子体反应器 [P].

竹涛 ;

张星 ;

边文璟 .

中国专利 :CN208210407U ,2018-12-07

[25]

具有独立的电容及环形等离子体源的等离子体反应器设备 [P].

亚历山大·M·帕特森 ;

瓦伦丁·N·托多罗夫 ;

西奥多洛斯·帕纳戈波洛斯 ;

布赖恩·K·哈彻 ;

丹·卡茨 ;

爱德华·P·哈蒙德四世 ;

约翰·P·荷文 ;

亚历山大·马特尤什金 .

中国专利 :CN101064238A ,2007-10-31

[26]

提高等离子体反应均匀性的等离子体反应器 [P].

张海洋 ;

王新鹏 .

中国专利 :CN202231940U ,2012-05-23

[27]

等离子体反应器及等离子体反应器在线清焦方法 [P].

宋项宁 ;

李超 ;

赵乾斌 ;

隋立华 .

中国专利 :CN112536008A ,2021-03-23

[28]

等离子体源 [P].

维克托·贝利多-刚扎雷兹 .

中国专利 :CN104718598A ,2015-06-17

[29]

具有等离子体源的沉积反应器 [P].

V·基尔皮 ;

W-M·李 ;

T·马利南 ;

J·科斯塔莫 ;

S·林德弗斯 .

中国专利 :CN103459660A ,2013-12-18

[30]

等离子体源和等离子体处理装置 [P].

池田太郎 ;

长田勇辉 ;

宫下大幸 ;

小野田裕之 ;

川上聪 .

中国专利 :CN115696713A ,2023-02-03

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