曝光用掩模版及掩模版组

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201920027004.7

申请日：

2019-01-08

公开(公告)号：

CN209149063U

公开(公告)日：

2019-07-23

发明(设计)人：

向洋张波彭林叶宁李凡

申请人：

申请人地址：

610200 四川省成都市双流区公兴街道青栏路1778号

IPC主分类号：

G03F100

IPC分类号：

G03F720

代理机构：

北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205

代理人：

李小波;刘芳

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-07-23	授权	授权

共 50 条

[1]

崔丹丹 ;

裘立强 ;

王毅 .

中国专利 :CN216450605U ,2022-05-06

[2]

刘运金 ;

赵欢 ;

瞿智明 ;

杨尚华 ;

陈涛 .

中国专利 :CN217933845U ,2022-11-29

[3]

不公告发明人 .

中国专利 :CN208188580U ,2018-12-04

[4]

组合掩模版 [P].

巫奉伦 ;

王嘉鸿 ;

夏忠平 ;

黄建维 .

中国专利 :CN210776175U ,2020-06-16

[5]

掩模版清洁装置 [P].

张祥平 ;

李天慧 ;

黄晓橹 ;

龙海凤 .

中国专利 :CN208673040U ,2019-03-29

[6]

掩模版清洗装置 [P].

请求不公布姓名 ;

请求不公布姓名 .

中国专利 :CN222710325U ,2025-04-04

[7]

掩模版传输系统 [P].

马方波 ;

吴福龙 .

中国专利 :CN206209287U ,2017-05-31

[8]

掩模版库机构 [P].

马喜宝 ;

李志龙 .

中国专利 :CN201327564Y ,2009-10-14

[9]

一种两次曝光用长掩模版 [P].

姚峰英 .

中国专利 :CN200989993Y ,2007-12-12

[10]

具有掩模版清洁功能的曝光机 [P].

秦颖 ;

孙亮 ;

孟春霞 ;

郝昭慧 ;

林承武 .

中国专利 :CN202003138U ,2011-10-05

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