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曝光用掩模版及掩模版组
被引:0
专利类型
:
实用新型
申请号
:
CN201920027004.7
申请日
:
2019-01-08
公开(公告)号
:
CN209149063U
公开(公告)日
:
2019-07-23
发明(设计)人
:
向洋
张波
彭林
叶宁
李凡
申请人
:
申请人地址
:
610200 四川省成都市双流区公兴街道青栏路1778号
IPC主分类号
:
G03F100
IPC分类号
:
G03F720
代理机构
:
北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205
代理人
:
李小波;刘芳
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2019-07-23
授权
授权
共 50 条
[31]
一种掩模版清洗花篮
[P].
顾梦星
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顾梦星
;
朱磊
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朱磊
;
张月圆
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张月圆
;
陈青
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陈青
.
中国专利
:CN211350598U
,2020-08-25
[32]
一种掩模版搬运装置
[P].
徐承军
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机构:
上海光大高科技股份有限公司
上海光大高科技股份有限公司
徐承军
.
中国专利
:CN223174151U
,2025-08-01
[33]
一种新型掩模版库
[P].
王印勋
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机构:
上海芯东来半导体科技有限公司
上海芯东来半导体科技有限公司
王印勋
;
王野
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机构:
上海芯东来半导体科技有限公司
上海芯东来半导体科技有限公司
王野
;
毕厚海
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机构:
上海芯东来半导体科技有限公司
上海芯东来半导体科技有限公司
毕厚海
;
肖博翰
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机构:
上海芯东来半导体科技有限公司
上海芯东来半导体科技有限公司
肖博翰
;
闵中华
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机构:
上海芯东来半导体科技有限公司
上海芯东来半导体科技有限公司
闵中华
.
中国专利
:CN222621244U
,2025-03-14
[34]
掩模版外形尺寸测量装置
[P].
侯广杰
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侯广杰
;
崔嘉豪
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崔嘉豪
.
中国专利
:CN215725571U
,2022-02-01
[35]
一种掩模版搬运装置
[P].
周荣梵
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周荣梵
;
林超
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林超
;
林伟
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林伟
.
中国专利
:CN214140595U
,2021-09-07
[36]
掩模版用局部喷颗粒工装
[P].
张兰强
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机构:
常州维普半导体设备有限公司
常州维普半导体设备有限公司
张兰强
;
刘军
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机构:
常州维普半导体设备有限公司
常州维普半导体设备有限公司
刘军
;
徐特
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机构:
常州维普半导体设备有限公司
常州维普半导体设备有限公司
徐特
.
中国专利
:CN223611215U
,2025-11-28
[37]
一种通用掩模版盒
[P].
朱希进
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朱希进
;
尤春
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尤春
;
刘维维
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刘维维
;
季书凤
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季书凤
;
杨长华
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杨长华
;
薛文卿
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薛文卿
;
张月圆
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张月圆
;
刘浩
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刘浩
;
陈青
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陈青
;
刘孝君
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刘孝君
.
中国专利
:CN208796016U
,2019-04-26
[38]
一种适用于光刻掩模版缺陷修补机的掩模版载具
[P].
陈杰
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陈杰
;
姜巍
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姜巍
.
中国专利
:CN210742673U
,2020-06-12
[39]
掩模版、约瑟夫森结元件及量子芯片
[P].
杨晖
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杨晖
;
代志鹏
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代志鹏
;
马亮亮
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马亮亮
;
尤兵
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尤兵
;
王念慈
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王念慈
;
陆瑞
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陆瑞
.
中国专利
:CN215731778U
,2022-02-01
[40]
一种掩模版及蒸镀机构
[P].
林志斌
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林志斌
.
中国专利
:CN214361641U
,2021-10-08
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