曝光用掩模版及掩模版组

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201920027004.7

申请日：

2019-01-08

公开(公告)号：

CN209149063U

公开(公告)日：

2019-07-23

发明(设计)人：

向洋张波彭林叶宁李凡

申请人：

申请人地址：

610200 四川省成都市双流区公兴街道青栏路1778号

IPC主分类号：

G03F100

IPC分类号：

G03F720

代理机构：

北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205

代理人：

李小波;刘芳

法律状态：

授权

国省代码：

引用

下载

收藏

法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-07-23	授权	授权

共 50 条

[21]

带有环尺的掩模版 [P].

崔庆丰 .

中国专利 :CN2280935Y ,1998-05-06

[22]

光刻机测试掩模版 [P].

王俊峰 .

中国专利 :CN220691253U ,2024-03-29

[23]

带对准标记的掩模版 [P].

田彬 ;

顾一鸣 .

中国专利 :CN201897692U ,2011-07-13

[24]

UT掩模版专用打磨装置 [P].

郁镇宇 .

中国专利 :CN213289738U ,2021-05-28

[25]

集成电路掩模版曝光机新型放置台 [P].

刘浩 ;

尤春 ;

沙云峰 ;

刘维维 ;

朱希进 ;

季书凤 ;

杨长华 ;

张月圆 ;

薛文卿 ;

吴洪强 .

中国专利 :CN207318933U ,2018-05-04

[26]

掩模版原材料恒温装置 [P].

黄执祥 ;

孙世强 .

中国专利 :CN215708233U ,2022-02-01

[27]

掩模版和半导体器件 [P].

李今朝 ;

黄韦胜 .

中国专利 :CN223123361U ,2025-07-18

[28]

掩模版和蒸镀装置 [P].

张粲 ;

王灿 ;

张盎然 ;

陈小川 .

中国专利 :CN210683920U ,2020-06-05

[29]

掩模版白缺陷修补烘烤装置 [P].

侯广杰 ;

游定平 .

中国专利 :CN202494860U ,2012-10-17

[30]

用于光栅电子束曝光设备的监测掩模版 [P].

王国荃 .

中国专利 :CN221746429U ,2024-09-20

← 1 2 3 4 5 →